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正電子發(fā)射斷層成像裝置數(shù)字化中二維幾何畸變檢測(cè)

  • 樣品名稱(chēng)：正電子發(fā)射斷層成像裝置數(shù)字化

  • 檢測(cè)項(xiàng)目：二維幾何畸變

  • 認(rèn)可資質(zhì)：其它

  • 檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)：YY/T1840-20234.1.4 正電子發(fā)射斷層成像裝置數(shù)字化技術(shù)要求

  • 服務(wù)地點(diǎn)：北京市

  • 適用范圍：醫(yī)療器械

  • 標(biāo)簽： 正電子發(fā)射斷層成像裝置數(shù)字化 二維幾何畸變 YY/T1840-20234.1.4 正電子發(fā)射斷層成像裝置數(shù)字化技術(shù)要求

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