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制備金相試樣的五步法

嘉峪檢測(cè)網(wǎng)        2019-11-04 11:52

一.實(shí)驗(yàn)?zāi)康?/span>

 

1. 學(xué)會(huì)金相試樣的制備方法。

2. 熟悉常用化學(xué)浸蝕試劑及其使用方法。

制備金相試樣的五步法

 

二.實(shí)驗(yàn)內(nèi)容

按照金相試樣的制備方法,每人制備出碳鋼金相試樣一塊,用金相顯微鏡觀察自己制備的試樣,要求試樣在顯微鏡下觀察應(yīng)沒有磨痕、組織清晰。

 

三.實(shí)驗(yàn)原理

要對(duì)金屬材料的顯微組織進(jìn)行觀察,首先就必須制備金相試樣。一般金相試樣的制備過程包括:取樣、鑲嵌、磨制、拋光、浸蝕等步驟。

 

1.取樣

 

取樣時(shí)應(yīng)根據(jù)零件的特點(diǎn)及檢驗(yàn)?zāi)康姆謩e選取具有代表性的部位。

 

例如:分析機(jī)械零件失效原因時(shí)應(yīng)在破壞最嚴(yán)重處和遠(yuǎn)離破裂處分別切取,從而有利于觀察顯微組織的變化,分析失效的原因。

 

研究鑄件組織時(shí),由于組織的不均勻性,應(yīng)從表層到中心同時(shí)切取幾個(gè)試樣,分析各個(gè)部位顯微組織的差異,了解結(jié)晶組織的變化。

 

研究退火處理的機(jī)械零件時(shí),由于其內(nèi)部組織比較均勻,可切取任意截面試樣進(jìn)行分析。

 

切取試樣時(shí),應(yīng)小心操作,不得因加工過熱而改變其組織。

 

取樣的常用方法有:鋸、車、刨、氣割、砂輪切割和線切割等。

 

試樣的大小視具體情況而定,以便于握持、易于磨制為準(zhǔn)。

 

通常方形試樣的邊長(zhǎng)為12~15 mm,圓柱形試樣尺寸為¢(12~15 mm)×15mm。

 

2.鑲嵌

 

對(duì)于細(xì)小和形狀特殊的試樣(如絲、帶、片等),不便于磨制和拋光時(shí),須將其鑲嵌在塑料及低熔點(diǎn)的合金中或用專用夾具夾持,以便進(jìn)行磨制和拋光操作。

 

鑲樣多采用熱壓鑲樣法和機(jī)械鑲樣法。

 

熱壓鑲樣法是將試樣放在電木粉或塑料粒中加熱至110~150℃左右,在鑲樣機(jī)中熱壓完成。

 

機(jī)械鑲樣法的優(yōu)點(diǎn)是使用專門的夾具夾持試樣以克服熱壓對(duì)試樣組織產(chǎn)生的影響。

 

3.磨制

 

磨制試樣是為了得到平整的磨面,為拋光做準(zhǔn)備。

 

磨制分為粗磨和細(xì)磨。

 

粗磨:用銼刀、砂輪或粗砂紙將試樣表面磨平、修整成平整合適的形狀,不做表面層金相檢驗(yàn)的試樣應(yīng)倒角,以免拋光時(shí)撕裂拋光布。

 

注意磨制時(shí)應(yīng)不斷用冷卻液進(jìn)行冷卻以免試樣表面過分發(fā)熱而引起內(nèi)部組織變化。

 

細(xì)磨:試樣的細(xì)磨一般在由粗到細(xì)的金相砂紙上進(jìn)行,細(xì)磨的目的是為了消除粗磨過程中產(chǎn)生較粗、較深的磨痕,為拋光作好準(zhǔn)備。

 

手工操作時(shí)應(yīng)注意,將砂紙平鋪在玻璃板上,一手將砂紙按住,一手將試樣輕壓在砂紙上,向一個(gè)方向推進(jìn)。

 

細(xì)磨時(shí),從粗砂紙到細(xì)砂紙依次進(jìn)行(金相砂紙標(biāo)號(hào)依次為W50、W28、W14、W10、W5 號(hào)五級(jí));每更換一次砂紙,試樣須轉(zhuǎn)90 度與前次磨制方向垂直并保持一個(gè)方向磨至舊磨痕完全消失,新磨痕均勻一致時(shí)為止;每次磨制后更換新砂紙前,試樣必須用清水沖洗,以免上一道工序的粗沙礫帶到細(xì)砂紙上而形成深的劃痕。

 

磨削時(shí)不可用力過重,否則容易產(chǎn)生過深的劃痕。

 

4.拋光

 

細(xì)磨后的試樣用水沖洗后就可進(jìn)行拋光。

 

拋光的目的是去除試樣磨面上經(jīng)細(xì)磨所產(chǎn)生的均勻而細(xì)微的劃痕,使檢驗(yàn)面呈光亮的鏡面。

 

機(jī)械拋光在金相試樣拋光機(jī)上進(jìn)行,拋光機(jī)的電動(dòng)機(jī)帶動(dòng)拋光盤高速旋轉(zhuǎn)。

 

拋光時(shí)要握緊試樣,將被磨面輕壓在旋轉(zhuǎn)的拋光盤上,用力要輕,并應(yīng)使試樣沿著拋光盤半徑方向上來回移動(dòng),要不斷地在拋光盤上加拋光液(拋光液是微粒磨料加水而成的懸浮液),拋光時(shí)間不宜太長(zhǎng),到劃痕完全消失為止。

 

拋光后的試樣表面用水沖洗干凈,浸以酒精備用。

 

不論采用何種方法切取的試樣經(jīng)粗磨、細(xì)磨、拋光后加工影響面(損傷層)逐漸消除,得到平整光滑的磨面。

 

拋光好的磨面如鏡面,在低倍顯微鏡下觀察應(yīng)沒有明顯的刻痕和蝕坑,這時(shí)就可以進(jìn)行浸蝕。

 

5.浸蝕

 

拋光后的試樣在金相顯微鏡下觀察,只能看到光亮的表面及某些非金屬夾雜物。要想觀察金屬的顯微組織,則必須用浸蝕劑浸蝕試樣表面。

 

最常用的浸蝕方法是化學(xué)浸蝕法,常用化學(xué)浸蝕劑。

 

浸蝕時(shí)可用棉花蘸上浸蝕劑在磨面上輕輕擦試,或?qū)⒛ッ嫱耆虢g劑中。

 

浸蝕時(shí)間一般由浸蝕劑濃度及金屬材料本身而定。

 

若選45 鋼試樣,則浸蝕劑選用4%的硝酸酒精溶液,浸蝕的時(shí)間約為8~15s(浸蝕時(shí)間與浸蝕劑濃度有很大關(guān)系)。

 

若浸蝕不足可繼續(xù)浸蝕;但浸蝕過度則需重新拋光。

 

對(duì)于不同的材料,可選用不同的浸蝕劑,其選用可查相關(guān)手冊(cè)。

 

對(duì)于純金屬或單相合金而言,浸蝕仍是一個(gè)純化學(xué)溶解過程。由于晶界處缺陷和雜質(zhì)較多,原子排列混亂且具有較高的自由能,易被浸蝕而呈凹陷;同時(shí)每個(gè)晶粒中原子排列的位向不同,各自的溶解速度也各不相同,致使被浸蝕的深淺程度也有區(qū)別。

 

因此在顯微鏡下觀察時(shí),反射光線變化較大:晶界處的反射光線發(fā)生散射沒有進(jìn)入顯微鏡物鏡而呈黑色;晶粒未被浸蝕,反射光線垂直進(jìn)入顯微鏡物鏡故呈白亮色。

 

所以,在顯微鏡下觀察到黑色的晶界和白色(各晶粒之間略有差異)的晶粒。

 

對(duì)于兩相以上的合金組織,浸蝕主要是一個(gè)電化學(xué)腐蝕過程。

 

由于各組成相的成分不同,具有不同的電極電位,當(dāng)試樣浸入具有電解液作用的浸蝕劑時(shí),就在兩相之間形成無數(shù)對(duì)“微電池”:具有負(fù)電位的組成相成為陽(yáng)極,它被迅速腐蝕而呈凹洼;具有正電位的另一組成相成為陰極,在正常的電化學(xué)作用下不受浸蝕而保持原有的光滑表面。

 

當(dāng)入射光線照射到凹凸不平的試樣表面時(shí),由于各處對(duì)光線的反射程度不同,在金相顯微鏡下就能觀察到各種不同的組成相。

 

試樣經(jīng)過浸蝕后,立即用清水沖洗,然后用酒精棉球擦拭并吹干,至此金相試樣的制備工作全部結(jié)束,即可在顯微鏡下進(jìn)行組織觀察和分析研究。

 

 

 

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來源:Internet

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