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嘉峪檢測網(wǎng) 2021-04-03 20:20
ENIG Ni(P)/Au(化學(xué)鍍鎳、金)工藝是在PCB涂敷阻焊層(綠油)之后進行的。對ENIG Ni/Au工藝的最基本要求是可焊性和焊點的可靠性。
化學(xué)鍍Ni層厚度為3~5μm,化學(xué)鍍薄Au層(又稱浸Au、置換Au),厚度為0.025~0.1μm?;瘜W(xué)鍍厚Au層(又稱還原Au),厚度為0.3~1μm,一般在0.5μm左右?;瘜W(xué)鍍鎳的含P量,對鍍層可焊性和耐腐蝕性是至關(guān)重要的。一般以含P量7%~9%為宜(中磷)。
含P量太低,鍍層耐腐蝕性差,易氧化。而且在腐蝕環(huán)境中由于Ni/Au的腐蝕原電池作用,會對Ni/Au的Ni表面層產(chǎn)生腐蝕,生成Ni的黑膜(NixOy),這對可焊性和焊點的可靠性都是極為不利的。P含量高,鍍層抗腐蝕性提高,可焊性也可以改善。
成本高;
黑盤問題很難根除,虛焊缺陷率往往居高不下;
ENIG Ni/Au表面的二級互連可靠性比OSP、Im-Ag、Im-Sn及HASL-Sn等涂敷層的可靠性都要差;
由于ENIG Ni/Au用的是Ni和5%~12%的P一起鍍上去的,因此,當(dāng)PCBA工作頻率超過5GHz,趨膚效應(yīng)很明顯時,信號傳輸中由于Ni-P復(fù)合鍍層的導(dǎo)電性比銅差,所以信號的傳輸速度變慢;
焊接中Au溶入釬料后與Sn形成的AuSn4金屬間化合物碎片,導(dǎo)致高頻阻抗不能“復(fù)零”;
存在“金脆”是降低焊點可靠性的隱患。一般情況下,焊接時間很短,只在幾秒內(nèi)完成,所以Au不能在焊料中均勻地擴散,這樣就會在局部形成高濃度層,這層的強度最低。
Im-Sn是近年來無鉛化過程中受重視的可焊性鍍層。浸Sn化學(xué)反應(yīng)(用硫酸亞錫或氯化亞錫)所獲得的Sn層厚度在0.1~1.5μm之間(經(jīng)多次焊接至少浸Sn厚度應(yīng)為1.5μm)。該厚度與鍍液中的亞錫離子濃度、溫度及鍍層疏孔度等有關(guān)。由于Sn具有較高的接觸電阻,在接觸探測測試方面,不像浸銀的那樣好。常規(guī)Im-Sn工藝,鍍層呈灰色,由于表面呈蜂窩狀排列,以致疏孔較多,容易滲透導(dǎo)致老化程度加快。
成本比ENIG Ni/Au及Im-Ag、OSP低;
存在錫晶須問題,對精細間距與長使用壽命器件影響較大,但對PCB的影響不大;
存在錫瘟現(xiàn)象,Sn相變點為13.2℃,低于這個溫度時變成粉末狀的灰色錫(α錫),使強度喪失;
Sn鍍層在溫度環(huán)境下會加速與銅層的擴散運動而導(dǎo)致SnCu金屬間化合物(IMC)的生長,如表1所示。

經(jīng)過高溫處理后,由于錫層厚度的消耗,將導(dǎo)致儲存時間縮短,如表2所示;

新板的潤濕性好,但存儲一段時間后,或多次再流后潤濕性下降快,因此后端應(yīng)用工藝性較差。
OSP是20世紀(jì)90年代出現(xiàn)的Cu表面有機助焊保護膜(簡稱OSP)。某些環(huán)氮化合物,如含有苯駢三氮唑(BTA)、咪唑、烷基咪唑、苯駢咪唑等的水溶液很容易和清潔的銅表面起反應(yīng),這些化合物中的氮雜環(huán)與Cu表面形成絡(luò)合物,這層保護膜防止了Cu表面被氧化。
成本較低,工藝較簡單;
當(dāng)焊接加熱時,銅的絡(luò)合物很快分解,只留下裸銅,因為OSP只是一個分子層,而且焊接時會被稀酸或助焊劑分解,所以不會有殘留物污染問題;
對有鉛焊接或無鉛焊接均能較好地兼容;
OSP保護涂層與助焊劑RMA(中等活性)兼容,但與較低活性的松香基免清洗助焊劑不兼容;
OSP的厚度(目前較多采用0.2~0.4μm)對所選用的助焊劑的匹配性要求較高,不同的厚度對助焊劑的匹配性要求也不同;
儲存環(huán)境條件要求高,車間壽命短,若生產(chǎn)管理不能配合,就不能選用。
Ag在常溫下具有最好的導(dǎo)熱性、導(dǎo)電性和焊接性,有極強的反光能力,高頻損耗小,表面?zhèn)鲗?dǎo)能力高。然而,Ag對S的親和力極高,大氣中微量的S(H2S、SO2或其他硫化物)都會使其變色,生成Ag2S、Ag2O而喪失可焊性。
Ag的另一個不足是Ag離子很容易在潮濕環(huán)境中沿著絕緣材料表面及體積方向遷移,使材料的絕緣性能劣化甚至短路。Ag沉積在基材銅上厚0.075~0.225μm,表面平滑,可引線鍵合。
與Au或Pd相比其成本相對便宜;
有良好的引線鍵合性,先天具有與Sn基釬料合金的優(yōu)良可焊性;
在Ag和Sn之間形成的金屬間化合物(Ag3Sn)并沒有明顯的易碎性;●在射頻(RF)電路中由于趨膚效應(yīng),Ag的高電導(dǎo)率特性正好發(fā)揮出來;
與空氣中的S、Cl、O接觸時,在表面分別生成AgS、AgCl、Ag2O,使其表面會失去光澤而發(fā)暗,影響外觀和可焊性。
1. 有鉛應(yīng)用情況大面積使用的是HASL Sn37P釬料工藝,也有使用OSP工藝的。
2. 無鉛應(yīng)用情況在無鉛用PCB表面可焊性保護涂層中,發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有的4種涂層(ENIG Ni/Au、Im-Sn、Im-Ag、OSP)誰也沒有明顯的優(yōu)勢,因此造成了不同地區(qū)和國家選用的類型都不一樣。例如,北美優(yōu)選Im-Ag,歐洲只用Im-Sn,日本較普遍采用OSP(少量采用HASL-Sn),國內(nèi)較多采用ENIG Ni/Au、OSP等。綜合各種PCB表面涂層的主要特性,如表3。

(1)現(xiàn)在電子產(chǎn)品的制造質(zhì)量越來越依賴于焊接質(zhì)量。在焊接質(zhì)量缺陷中占據(jù)第一位同時也是影響最嚴重的是虛焊,它是威脅電子產(chǎn)品工作可靠性的頭號殺手。
(2)虛焊現(xiàn)象成因復(fù)雜,影響面廣,隱蔽性大,因此造成的損失也大。在實際工作中為了查找一個虛焊點,往往要花費大量的人力和物力,而且根治措施涉及面廣,建立穩(wěn)定、長期的解決措施也是不容易的。為此,虛焊問題一直是電子行業(yè)關(guān)注的焦點。
(3)背板產(chǎn)品表面保護鍍層不僅要求可焊性好,抗工作環(huán)境侵蝕能力強,而且還要求與壓接工藝有良好的適應(yīng)性。尋求合適的背板產(chǎn)品表面鍍層新的鍍涂層工藝,能同時適應(yīng)上述要求的鍍層,國內(nèi)外均在研究中。
(4)系統(tǒng)PCBA單板無鉛化實施中,由于無鉛釬料SAC的熔點比有鉛釬料的高了34℃,而且潤濕性也差很多,在現(xiàn)有的PCB涂層工藝下,焊接缺陷率(虛焊)將比有鉛情況明顯增加。因此,針對系統(tǒng)PCBA單板的無鉛制程全面實施,有必要對影響系統(tǒng)單板焊接質(zhì)量的主要因素進行預(yù)先研究和試驗。
(5)利用上述4種PCB表面處理涂層組裝的PCBA組件,在抗惡劣環(huán)境侵蝕能力方面都不理想。以鹽霧試驗為例,4種工藝的大樣品數(shù)試驗結(jié)果如圖1~圖4所示。

圖1 ENIG Ni/Au工藝/基底金屬嚴重腐蝕

圖2 Im-Ag工藝/基底金屬嚴重腐蝕

圖3 Im-Sn工藝/基底金屬輕微腐蝕

圖4OSP工藝/基底金屬嚴重腐蝕
(6)采用ENIG Ni/Au鍍層的背板產(chǎn)品在用戶應(yīng)用中也不時發(fā)生點狀銹蝕而返修,如圖5所示。

圖5 被銹蝕的背板ENIG Ni/Au表面
經(jīng)過上述大樣品數(shù)的應(yīng)用性能分析,現(xiàn)有的4種工藝雖各有優(yōu)點和不足,但沒有一種綜合性能均較優(yōu)的。電子組裝業(yè)一直在從事有關(guān)與可能解決HASL、OSP和ENIG、Im(化學(xué)鍍)等涂層相關(guān)缺點的替代表面涂層的試驗和研究,尋找一種新的涂層工藝,是同時抑制PCB焊盤虛焊和提高表面非焊金屬部分抗環(huán)境侵蝕能力的唯一出路。

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