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產(chǎn)品綜述

硅片清洗劑主要用在單多晶線切割后的硅片表面清洗處理，能有效地清除硅片表面的污染物，使硅片表面潔凈如一，特別適用于太陽能硅片清洗，有利于硅片制絨，提高電池片的轉(zhuǎn)化效率。

國內(nèi)硅片清洗劑主要有三種，分別是單組份清洗劑，雙組份清洗劑，多組分清洗劑。

產(chǎn)品配方組成

硅片清洗劑大多數(shù)呈堿性液體，主要成分是堿、磷酸鹽、硅酸鹽、碳酸鹽、鰲合劑和表面活性劑。

產(chǎn)品主要特性

（1）對硅片切割液、研磨液等具有較好乳化、分散及清潔作用，且使用壽命長，易于清洗漂洗。

（2）硅片表面不易產(chǎn)生過腐蝕。

（3）中溫使用，濃度高、成本低、速度快，效果好。

（4）清洗性能好，清洗后的硅片表面無殘留,硅片制絨及光電性能好。

（5）配合超聲波，清洗效果更佳。

清洗機理

強堿的皂化作用可以將油脂分解成可溶的物質(zhì)隨清洗液沖走，磷酸鹽和硅酸鹽都能提供一定的清潔效果。

碳酸鹽具有弱堿性，pH值在9-9.5，碳酸鹽的主要作用是作為緩沖劑，使清洗液的pH值保持在一定范圍內(nèi)。

鰲合劑一方面通過化學(xué)反應(yīng)減少溶液中的自由金屬離子，另一方面通過競爭吸附提前吸附在硅片表面從而減少金屬在硅片表面的附著。

表面活性劑的性質(zhì)主要由親水基團決定，一類是溶解于水后能解離的離子型表面活性劑，另一類是在水中不能解離的非離子型表面活性劑。

在半導(dǎo)體清洗中為避免離子污染，通常使用非離子型表面活性劑。在切片過程中，切屑、油污、金屬原子等易粘附在硅片表面，清洗液中的表面活性劑一方面能吸附各種粒子、有機分子，并在硅表面形成一層吸附膜，阻止粒子和有機分子粘附在硅表面上，另一方面可滲入到粒子和油污粘附的界面上，把粒子和油污從界面分離隨清洗液帶走，起到清洗作用使硅片表面潔凈。

一般來說在堿性清洗液中加人表面活性劑主要有以下2個作用：

1）降低表面張力

表面活性劑在溶液中的排列情況與濃度有關(guān)，只有當(dāng)濃度達(dá)一定值時，才能在溶液表面聚集足夠的數(shù)量形成單分子膜，從而降低表面張力，增強清洗液的潤濕和滲透作用。

2）提高超聲效率

借助于表面活性劑的潤濕、滲透、乳化、增溶、分散等作用，使污染在硅片表面的附著力削弱，再施以加熱、超聲波等物理方法，使污染物脫離硅片表面，而進(jìn)人清洗液中被乳化。