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PCB孔銅斷裂失效分析與改善對(duì)策

嘉峪檢測(cè)網(wǎng)        2021-10-19 21:47

引言

 

      隨著電子制造的高密度化發(fā)展和無(wú)鉛化焊接的高溫要求,多層板的層間連接導(dǎo)通孔面臨越來(lái)越嚴(yán)苛的考驗(yàn),而導(dǎo)通孔的可靠性在一定程度上決定印制線路板的可靠性。

 

      特別是電子組件(PCBA)的工藝復(fù)雜程度在不斷提高,印制線路板需要承受多個(gè)周期的溫度沖擊,較高的溫度沖擊對(duì)導(dǎo)通孔內(nèi)層銅與孔化銅形成較大的應(yīng)力作用,這就要求生產(chǎn)商不僅要滿足相應(yīng)的出場(chǎng)檢驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn),還要從過(guò)程控制的角度對(duì)導(dǎo)通孔的質(zhì)量和穩(wěn)定性進(jìn)行關(guān)注。

 

      印制線路板導(dǎo)通孔出現(xiàn)質(zhì)量問(wèn)題的原因有很多,本文基于孔銅斷裂的實(shí)際失效案例,對(duì)孔銅斷裂的內(nèi)在機(jī)理進(jìn)行探討和分析,并提出工程應(yīng)用的關(guān)注環(huán)節(jié)和改善方向。

 

1、案例失效背景

 

      某PCB在制造階段100%測(cè)試無(wú)異常,在SMT貼片后測(cè)試環(huán)節(jié)發(fā)現(xiàn)通孔開路失效現(xiàn)象,不良率在20%左右。

 

2、 CT結(jié)構(gòu)分析

 

      對(duì)開路通孔進(jìn)行CT掃描分析,測(cè)試結(jié)果顯示:通孔孔壁均勻性較差,存在異常陰影,見圖1(a);通孔孔銅平直度差。

 

PCB孔銅斷裂失效分析與改善對(duì)策PCB孔銅斷裂失效分析與改善對(duì)策

 

圖1. CT掃描圖(a)三維結(jié)構(gòu)圖;(b)虛擬切片圖

 

3、剖面分析

 

      將開路通孔進(jìn)行縱向剖切研磨,利用場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(SEM)對(duì)通孔剖面結(jié)構(gòu)進(jìn)行顯微觀察,結(jié)果如圖2所示:通孔存在明顯的環(huán)形裂紋,孔壁粗糙度較大,且PCB整孔不良。

 

PCB孔銅斷裂失效分析與改善對(duì)策PCB孔銅斷裂失效分析與改善對(duì)策

 

圖2.失效通孔剖面形貌

 

     如圖3、圖4所示,孔壁厚度均勻性較差,裂紋萌生擴(kuò)展區(qū)的孔壁有效厚度極小。SMT回流焊接過(guò)程中,PCB經(jīng)歷高溫沖擊,通孔承受垂直于板面的拉應(yīng)力作用,孔壁較薄區(qū)域?qū)儆趹?yīng)力集中區(qū)。

 

      此外,值得注意的是裂紋內(nèi)含有明顯異物,異物成分主要為碳、氧元素(見表1),說(shuō)明PCB除膠渣不夠徹底。

 

PCB孔銅斷裂失效分析與改善對(duì)策PCB孔銅斷裂失效分析與改善對(duì)策

 

圖3.失效通孔A區(qū)域微觀剖面形貌

 

表1. 孔銅裂紋處EDS結(jié)果 (Wt.%)

 

PCB孔銅斷裂失效分析與改善對(duì)策

 

      對(duì)通孔開裂區(qū)域孔銅的最小有效厚度進(jìn)行測(cè)量,孔銅最薄厚度僅為9.87µm,不符合標(biāo)準(zhǔn)IPC-6012A中關(guān)于最小孔銅厚度的要求。

 

PCB孔銅斷裂失效分析與改善對(duì)策

 

圖4. 失效通孔B區(qū)域微觀剖面結(jié)構(gòu)

 

4、孔銅晶粒形貌分析

 

      決定通孔孔銅性能的因素有:

 

      1)孔銅宏觀結(jié)構(gòu),如厚度、粗糙度等;

 

      2)孔銅微觀金相組織,如晶粒形貌。

 

      將開路通孔縱向機(jī)械研磨拋光后,利用離子研磨(CP)對(duì)樣品表面進(jìn)行處理,將處理后的樣品采用聚焦離子束(FIB)離子成像。

 

      圖5是孔銅金相組織圖片,從中可以清晰觀察到失效樣品的孔銅晶粒屬于典型的柱狀晶形貌,正常批次樣品的孔銅晶粒接近于等軸晶。柱狀晶具有各向異性,即垂直于晶粒生長(zhǎng)方向的性能較差;等軸晶具有各向同性,即各個(gè)方向上的材料性能幾乎一致,這也是為什么行業(yè)內(nèi)要求孔銅金相組織要避免柱狀晶的原因所在。

 

PCB孔銅斷裂失效分析與改善對(duì)策PCB孔銅斷裂失效分析與改善對(duì)策

 

圖5. 孔銅金相組織(a)失效樣品孔銅;(b)正常批次樣品孔銅

 

5、PCB 熱性能測(cè)試

 

      SMT焊接過(guò)程中PCB所受熱應(yīng)力主要與Z軸熱膨脹系數(shù)相關(guān),Z軸熱膨脹系數(shù)越大的材料在經(jīng)受熱沖擊時(shí)對(duì)孔壁銅的沖擊力就越大,就會(huì)更容易造成金屬化孔的斷裂。

 

      依照IPC-TM-650 2.4.24C 玻璃化轉(zhuǎn)變溫度和Z軸熱膨脹(TMA法)的方法,對(duì)失效批次和正常批次的PCB光板進(jìn)行熱性能測(cè)試。

 

      測(cè)試條件如下:

 

      1)預(yù)處理:105±2℃,2±0.25h;

 

      2)升溫速率10℃/min; 

 

      3)保護(hù)氣氛氮?dú)狻?/span>

 

      測(cè)試結(jié)果見圖6和表2,失效批次與正常批次PCB光板Z軸熱膨脹系數(shù)、玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg)無(wú)本質(zhì)差異,說(shuō)明失效批次和正常批次的PCB光板基體材料熱性能無(wú)區(qū)別,失效與基板材質(zhì)無(wú)關(guān)。

 

表2.PCB Z-軸熱性能測(cè)試結(jié)果

 

PCB孔銅斷裂失效分析與改善對(duì)策

 

PCB孔銅斷裂失效分析與改善對(duì)策PCB孔銅斷裂失效分析與改善對(duì)策

 

圖6. Z-CTE測(cè)試結(jié)果

 

6、討論與分析

 

      從測(cè)試結(jié)果來(lái)看,PCB孔銅開裂的原因主要有:

 

      ①鉆孔、除膠渣工藝不良,孔壁粗糙度大,孔內(nèi)膠渣殘留,導(dǎo)致形成應(yīng)力集中區(qū),有利于裂紋的萌生擴(kuò)展;

 

      ②孔銅厚度不足,嚴(yán)重不符合標(biāo)準(zhǔn)IPC-6012A的最低要求;

 

      ③孔銅晶粒屬于柱狀晶,降低了孔銅的抗拉強(qiáng)度。

 

      鉆孔優(yōu)劣會(huì)直接影響孔化前處理的難易程度和鍍覆孔的質(zhì)量,過(guò)大的鉆污量會(huì)增加除膠渣和凹蝕的困難度。如果除膠渣不凈或者凹蝕效果不好,就會(huì)導(dǎo)致通孔存在局部應(yīng)力集中,如本案圖3、圖4所示。

 

      除膠渣工藝的目的是去除鉆污,鉆污清除不徹底會(huì)帶來(lái)多種可靠性隱患,例如降低內(nèi)層銅與孔壁的結(jié)合強(qiáng)度,孔銅內(nèi)壁形成應(yīng)力集中區(qū)等。

 

      化學(xué)鍍銅工藝是保證金屬化孔電鍍銅厚度和孔壁銅鍍層均勻性、延展性的核心工序,確保金屬化孔能夠承受焊接制程中的熱應(yīng)力。本案中孔壁厚度和異常的金相組織(柱狀晶)嚴(yán)重惡化了孔銅的性能。

 

7、結(jié)論與建議

 

      本案PCB通孔斷裂與PCB鉆孔工序、除膠渣工序、化學(xué)鍍銅工序直接相關(guān),這三個(gè)制程均存在嚴(yán)重不良,屬于典型的制板工藝能力失控的表現(xiàn)。

 

      建議:

 

      鉆孔前烘板,優(yōu)化鉆頭轉(zhuǎn)速和進(jìn)給;

 

      保證合適的凹蝕深度,可考慮等離子處理方法;

 

      化學(xué)鍍銅后,建議對(duì)其電鍍質(zhì)量進(jìn)行切片確認(rèn),重點(diǎn)關(guān)注孔銅金相組織。

 

參考文獻(xiàn):

 

[1] 陳雪,梅屈媛,許峰. 化學(xué)鍍銅的印制電路內(nèi)層斷裂問(wèn)題研究[J]. 涂料涂裝與電鍍, 2004年05期, 第32-35頁(yè).

[2] 周仲承,王克軍,符飛燕,余金,王龍彪. 金屬化孔常見缺陷及預(yù)防[J]. 印制電路信息, 2015年10期, 第49-53頁(yè).

[3] 石磊,郭曉宇. 剛撓印制板鍍覆孔孔壁開裂原因分析[J]. 電子工藝技術(shù), 2011年01期, 第31-35頁(yè).

[4] 林金堵,吳梅珠. PCB鍍通孔發(fā)生"空洞"的根本原因和對(duì)策[J]. 印制電路信息, 2010(4): 31-36.

 
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來(lái)源:電子制造資訊站

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