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嘉峪檢測網(wǎng) 2021-12-21 00:21
摘要
對兩只塑封器件開封后進(jìn)行內(nèi)部目檢,發(fā)現(xiàn)一只樣品存在金屬層損傷缺陷,另一只樣品芯片表面有大量多余物。
利用掃描電鏡和能譜儀對缺陷部位和多余物進(jìn)一步進(jìn)行形貌觀察和元素成分分析,結(jié)果表明金屬層損傷部位有導(dǎo)電銀漿殘留物,損傷形貌明顯為壓應(yīng)力造成,而芯片表面的大量多余物也含有導(dǎo)電銀漿殘留物,呈扁平狀,局部區(qū)域有鈍化層被壓碎的形貌特征。
根據(jù)微電子塑封封裝工藝流程進(jìn)行分析,認(rèn)為芯片損傷機(jī)理為:粘接工藝控制不良導(dǎo)致導(dǎo)電銀漿在芯片上殘留,環(huán)氧塑封料固化過程中收縮產(chǎn)生的壓應(yīng)力通過銀漿殘留物將芯片金屬層和鈍化層壓碎。
引言
隨著可靠性的提高,塑封器件逐步應(yīng)用于航天、航空等高可靠性領(lǐng)域。為提高塑封器件的使用可靠性,一方面,需要生產(chǎn)廠商按設(shè)計(jì)要求嚴(yán)格控制每一道工序;另一方面,需要檢測分析人員對檢測過程、應(yīng)用過程中發(fā)現(xiàn)的問題進(jìn)行機(jī)理性分析,將分析數(shù)據(jù)反饋到生產(chǎn)廠商以改進(jìn)工藝。以破壞性物理分析(DPA)、失效分析(FA)為代表的分析技術(shù)手段對塑封器件工藝水平的提高發(fā)揮了積極作用。
在塑封微電子器件的制備工藝中,芯片粘接工藝是最重要的環(huán)節(jié)之一,采用導(dǎo)電銀漿粘接芯片是最常用的粘接工藝之一。相比于傳統(tǒng)錫鉛焊料,導(dǎo)電銀漿具有固化溫度低、較高柔性、更好的熱膨脹系數(shù)匹配等方面的優(yōu)點(diǎn),更重要的是導(dǎo)電銀漿是綠色環(huán)保組裝材料,替代傳統(tǒng)的錫鉛焊料已成為必然趨勢。
對于導(dǎo)電銀漿或其它粘芯膠的應(yīng)用而言,文獻(xiàn)常常報(bào)道的是熱膨脹系數(shù)不匹配在固化過程中引起芯片翹曲,熱循環(huán)載荷、熱沖擊和高溫高濕等環(huán)境條件對粘接可靠性的影響,導(dǎo)電粒子類型、大小和用量等對粘接可靠性的影響。從失效形式來看,主要有熱應(yīng)力破壞導(dǎo)致疲勞失效、濕應(yīng)力導(dǎo)致壽命大大降低、制造過程中產(chǎn)生的空洞和氣泡導(dǎo)致應(yīng)力集中而大大降低熱疲勞壽命。
而對于塑封封裝的失效,國內(nèi)外文獻(xiàn)更多的報(bào)道是回流焊引起的塑封分層、吸潮引起的塑封開裂、芯片粘接失效、爆米花效應(yīng)等常見問題。
這些常見問題的報(bào)道,能引起生產(chǎn)廠商的重視,并改進(jìn)工藝以提高塑封器件的可靠性。然而,一些不常見的問題卻因?yàn)槲墨I(xiàn)鮮有報(bào)道,容易受到忽視。在對某批次塑封器件進(jìn)行DPA內(nèi)部目檢的過程中,發(fā)現(xiàn)抽檢的兩只樣品芯片表面均有不同程度的多余物,并伴隨不同程度的芯片損傷。
利用掃描電鏡和能譜儀對損傷部位的形貌、元素成分進(jìn)行了分析,發(fā)現(xiàn)損傷部位存在不同程度的導(dǎo)電銀漿殘留物沾污,對沾污的來源及其對芯片損傷的機(jī)理進(jìn)行了分析,并通過形貌對比分析,排除了開封過程引入損傷的可能性。結(jié)果對生產(chǎn)廠商重視相關(guān)工藝環(huán)節(jié)具有一定的參考價(jià)值。
1、試驗(yàn)
利用發(fā)煙硝酸在85℃去除塑封料后,對兩只塑封器件進(jìn)行DPA檢測的內(nèi)部目檢項(xiàng)目,在顯微鏡放大倍數(shù)50~200倍的條件下檢查芯片表面形貌,發(fā)現(xiàn)兩只樣品分別存在金屬層損傷缺陷(1號樣品)和多余物缺陷(2號樣品),分別依據(jù)GJB548B方法2010.13.1.1.1a條和3.2.5a條缺陷判據(jù)判定不合格,見圖1。
為進(jìn)一步分析缺陷的形成機(jī)理,將兩只塑封器件鍍金后,利用掃描電鏡對缺陷部位進(jìn)行背散射電子成像,以了解成分襯度,用能譜儀對缺陷部位進(jìn)行元素分析,以了解缺陷部位的元素分布情況。

2、 結(jié)果與討論
2.1 缺陷部位形貌及元素分布分析
分別對1號、2號樣品進(jìn)行背散射電子成像,結(jié)果如圖2、圖3所示,可以發(fā)現(xiàn)在1號樣品損傷部位有亮色物質(zhì),而2號樣品的多余物也呈亮色。
背散射電子成像的基本原理是利用高能電子束與樣品內(nèi)部的原子核作用,“反彈”回電子,探測器收集后進(jìn)行成像,原子序數(shù)越大,原子核就越大,“反彈”的電子就越多,信號也就越強(qiáng),在圖像上就會(huì)體現(xiàn)出較亮的特征,因此,背散射電子像最能反應(yīng)樣品表面的成分襯度。
對于Si基半導(dǎo)體器件而言,正常情況下,芯片表面含有的元素主要為N、O、Al、Si,其中N和O分別與Si結(jié)合形成玻璃鈍化層Si3N4和鈍化層SiO2,并沉積于除鍵合區(qū)外的整塊芯片上,而Al和Si的原子序數(shù)分別為13和14,相差很小,因此,背散射電子像也無法體現(xiàn)出成分襯度。
從圖2、圖3也可以看出,在芯片的正常區(qū)域無明顯的成分襯度,而在缺陷部位存在的亮色物質(zhì)說明了缺陷部位引入了原子序數(shù)明顯大于芯片表面正常元素的物質(zhì)。


對亮色物質(zhì)進(jìn)行能譜分析,并與芯片表面正常部位進(jìn)行對比,結(jié)果如圖4所示,可以發(fā)現(xiàn)亮色物質(zhì)明顯含有Ag元素。

2.2 缺陷形成機(jī)理分析
從硅基半導(dǎo)體塑封器件的工藝流程分析,產(chǎn)生Ag元素的環(huán)節(jié)只可能是粘接工藝。文獻(xiàn)報(bào)道了采用導(dǎo)電銀漿粘接芯片的工藝流程為:首先利用點(diǎn)膠設(shè)備將銀漿分配到引線框架或基板上,然后利用真空吸嘴將藍(lán)膜上的芯片拾取起來并放置在基板上點(diǎn)膠部位,最后進(jìn)行烘烤固化,如圖5所示。
在該粘接工藝過程中,如果點(diǎn)膠過程控制不好,就會(huì)出現(xiàn)拖尾現(xiàn)象,致使在基板上的銀漿材料過多,利用真空吸嘴將芯片放置在點(diǎn)膠部位時(shí),會(huì)有一定的壓力,致使下層的銀漿溢出到芯片表面,且還有可能會(huì)沾污真空吸嘴,拾取下一個(gè)芯片時(shí),銀漿就會(huì)殘留在芯片表面。

經(jīng)過打線鍵合工藝后,芯片將被送入塑封封裝模具的型腔中進(jìn)行環(huán)氧灌封,然后固化。在環(huán)氧固化過程中,必然會(huì)收縮產(chǎn)生一定的應(yīng)力,且由于環(huán)氧塑封料、芯片、引線框架之間熱膨脹系數(shù)不匹配,在后期環(huán)境試驗(yàn)或在自然環(huán)境下貯存中均會(huì)產(chǎn)生一定的應(yīng)力。
相關(guān)文獻(xiàn)報(bào)道了環(huán)氧固化過程中產(chǎn)生應(yīng)力導(dǎo)致硅芯片破裂、石英砂損傷金屬化布線等情況,見圖6。在日常DPA檢測中,也發(fā)現(xiàn)了類似的二氧化硅顆粒損傷金屬層的情況,見圖7。將圖6、圖7與圖2(b)對比,可以發(fā)現(xiàn)金屬層損傷的形態(tài)基本一致,都存在明顯受到擠壓后碎裂狀形態(tài)。
另外,從圖3(b)可以看出,銀漿明顯壓破了鈍化層,進(jìn)一步說明了芯片表面上的銀漿受到的壓應(yīng)力狀態(tài),而這種壓應(yīng)力的產(chǎn)生應(yīng)是來源于環(huán)氧固化收縮。


通過以上結(jié)果,可以分析塑封器件芯片損傷的機(jī)理為:粘接工藝控制不良,導(dǎo)致銀漿多余物殘留于芯片表面,在環(huán)氧塑封料固化過程中,由于收縮產(chǎn)生壓應(yīng)力,壓應(yīng)力通過芯片表面殘留的銀漿將金屬層和鈍化層損傷。
根據(jù)芯片損傷機(jī)理分析結(jié)果,對于生產(chǎn)廠商來說,有必要加強(qiáng)粘接工藝的控制,可以從點(diǎn)膠內(nèi)徑、時(shí)間、壓力等影響點(diǎn)膠性能的主要參數(shù)入手,通過優(yōu)化平衡參數(shù),控制好該道工藝;
此外,在環(huán)氧灌封前,加強(qiáng)目檢環(huán)節(jié)也是必要的措施,根據(jù)GJB548B方法2010-3.2.3的要求,剔除“安裝材料延伸至芯片頂部”的不合格品,然后再進(jìn)行環(huán)氧灌封,可以避免銀漿粘污芯片,從而進(jìn)一步保障塑封器件的使用可靠性。
2.3 開封過程引入問題的排除
在開封過程中,鑷子在夾放芯片時(shí),鑷子的尖端如果不慎碰到芯片是有可能造成損傷的,為了排除開封過程損傷芯片的可能性,將鑷子損傷的芯片進(jìn)行掃描電鏡成像,形貌如圖8所示。
將圖8與圖2進(jìn)行對比,可以發(fā)現(xiàn)鑷子損傷芯片的形貌有路徑,損傷部位沒有碎裂狀的形貌,而圖2體現(xiàn)出來的形貌則是碎裂狀,因此,對于1號樣品芯片表面存在的金屬層損傷可以排除是開封過程引入的。

3、 結(jié)論
利用DPA檢測技術(shù)對兩只塑封器件進(jìn)行了內(nèi)部目檢,發(fā)現(xiàn)兩只器件均存在GJB548B規(guī)定的標(biāo)準(zhǔn)缺陷,為不合格品。
利用掃描電鏡和能譜技術(shù),并結(jié)合工藝環(huán)節(jié),對缺陷形成的機(jī)理進(jìn)行了分析,結(jié)果表明粘接工藝控制不良造成兩只器件存在不同程度的導(dǎo)電銀漿沾污,環(huán)氧固化過程中,由于環(huán)氧料收縮產(chǎn)生應(yīng)力,通過沾污物將芯片表面的金屬層和鈍化層壓碎。分析結(jié)果對生產(chǎn)廠商重視粘接工藝環(huán)節(jié)有一定的參考價(jià)值。

來源:半導(dǎo)體封裝工程師之家