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嘉峪檢測網(wǎng) 2021-12-21 22:38
PCB電鍍常見問題與解決方法
問題一、各鍍銅層間附著力不良
可能原因
解決方法
①電鍍前清潔處理不當
提高清潔槽液的溫度以利去除油污和指紋
②底銅表面的氧
使用微蝕劑去除底鍍層表面的污染物
③鈍化皮膜未除盡
檢查清潔槽和微蝕槽液的活性并改善之
④清潔槽中的濕潤劑被帶出
檢查水洗程序,增加水洗水流量并在出槽時采用噴射水洗,
使孔內(nèi)清潔效果更好
⑤水洗不足造成底銅的鈍化
提高水洗水溫度,噴射水洗后也可另采用多段式溢流水洗
⑥板子進入鍍槽后電源并未立即開啟
重新檢查整流器之自動程序
⑦電流密度過大
重新檢查電鍍程序,降低電流密度
⑧過硫酸根殘余物污染
使用過硫酸鹽微蝕后,必須再以5-10%的硫酸浸洗,以除去表面的銅鹽類。
⑨干膜顯影后水洗不足
提高噴射水洗壓力;檢查噴嘴是否有阻塞,并采用適當?shù)膰娮炫帕胁贾茫惶岣咚礈囟鹊?6℃以上。
問題二、電鍍燒板
可能原因
解決方法
①電流密度過高或電鍍面積不均勻,導(dǎo)致板面上局部電流密度超過局限電流
降低所用之電流;
按添加劑系統(tǒng)設(shè)定操作電流密度,和板子布置情況以及攪拌程度;
在高電流密度區(qū)增加輔助陰極板,以吸收多余的電流。
②鍍液攪拌不當或板架往復(fù)攪拌不足
利用循環(huán)過濾及低壓空氣進行攪拌;
配合陰極桿往復(fù)擺動(與板面垂直)攪拌;
檢查陰極之間的距離,在電流密度為30ASF的情況下,其距離至少應(yīng)為15公分。
③在操作電流密度下的銅離子濃度過低
維持銅離子的應(yīng)有濃度或降低電流密度
④硫酸濃度過高
稀釋槽液,維持一定的酸濃度
⑤槽液溫度過低
冬天須加熱槽液,最佳的操作溫度通常介于21-26℃之間。
⑥各添加劑含量已失去平衡
添加適用于高CD之添加劑,以減少燒焦;
添加適用于低電流密度這之添加劑,以減少板面燒焦(線路);
在正式添加大槽前應(yīng)先于小槽內(nèi)試驗添加劑的性能。
⑦陽極過長或數(shù)量過多
陽極長度應(yīng)比板架略短2-3英寸;將陽極袋綁緊;
自槽液中移走部分陽極棒;
陽極對陰極的面積比不應(yīng)該超過2:1
問題三、電鍍板邊燒焦
可能原因
解決方法
①電流密度太高
檢查被鍍面積,適當降低電流密度
②添加劑不足
采用霍爾槽試驗法,查看試片背后中心部位鍍層凹部的錫鉛鍍層面是否過低
③錫鉛陽極太長
這樣會造成掛具最下端的板邊板角電流密度太高而被燒焦,因此應(yīng)使陽極長度應(yīng)比陰極短50-70mm
④槽液循環(huán)或攪拌不足
應(yīng)按照工藝規(guī)定應(yīng)加強鍍液的循環(huán)過濾及陰極桿的往復(fù)擺動
⑤錫鉛金屬含量不足
按照工藝規(guī)范進行分析與調(diào)整。
⑥有機物污染
使用優(yōu)質(zhì)活性碳3-5克/ 升進行處理并根據(jù)工藝要求補充添加劑
⑦金屬雜質(zhì)污染
采用小電流(0.1-0.5A/dm2)、瓦楞陰極進行析鍍處理
⑧鍍層中鉛量過多
可能是陽極成份或槽液成份不對以及電流密度太低使鉛鍍出太多。應(yīng)對陽極及槽液進行定量分析,并對電流密度進行調(diào)整
⑨陽極泥落入槽內(nèi)
應(yīng)定期檢查陽極袋破損情況
⑩氟硼酸水解產(chǎn)生氟化鉛粒子的附著
槽內(nèi)加掛硼酸袋使硼酸在鍍液中處于飽和,從而抑制氟硼酸水解產(chǎn)生
?板子可能自孔內(nèi)帶入少許硫酸根而在銅面產(chǎn)生白色沉淀,進而影響熱熔的效果
加強水洗,特別是孔的清洗要特別注視
問題四、電鍍局部漏鍍或階梯鍍
可能原因
解決方法
①干膜顯影不凈
重新檢查干膜之顯影作業(yè)條件;
檢查底片的布線密度,凡又長又密時應(yīng)特別小心顯影之作業(yè);
檢查顯影機組之噴嘴是否發(fā)生堵塞。
②板面上已有指紋印及油漬的污染
提高電鍍前處理清潔槽液之溫度;
改善板子持取的方法,只能用手掌互頂板邊,不可用手指抓取板面。
③鍍液中有機物含量過多
使用赫爾槽(Hull Cell)分析光劑;進行活性炭過濾處理;
控制添加劑的含量。
④用做干膜檢修(Touch-up)的油墨對待鍍的線路區(qū)造成意外的污染
檢討檢修或修補用的油墨及制程
⑤清潔槽中的潤濕劑被帶出,并自小孔內(nèi)逐漸流出而影響鍍銅之外觀
增加水洗浸泡時間并在板子出槽時另采用強力噴射水洗
⑥干膜表面滲出顯影液之殘跡
顯影過后須置放30分鐘以使反應(yīng)達到平衡
⑦顯影液受到污染
保持最后一個顯影槽液的潔凈度
問題五、電鍍兩邊厚度不均勻
可能原因
解決方法
①板子兩面的電鍍面積不一致,尤其當一面是接地層面而另一面是線路面時
以正反排板方式將板子兩面的待鍍面積加以調(diào)整
②一面掉電流
稽查電流實時情況
③兩面電鍍面積填錯
與工程核對電鍍面積是否正確
④可能是某一邊陽極之線纜系統(tǒng)導(dǎo)電不良所致
檢查及改善
問題六、銅層過薄
可能原因
解決方法
①電鍍過程中,電流不夠
確認板子面積以決定總電流的大小
②電鍍過程中,電流密度不夠
確認板子面積以決定電流密度
③電鍍過程中,電鍍時間不夠
根據(jù)板子面積比確認電鍍時間
④板子與掛架或掛架與陰極桿的接觸導(dǎo)電不良
檢查整流器,板子等所有的電路接點
問題七、全板電鍍厚度不均
可能原因
解決方法
①陽極籃與陰極板面的相對位置不當
以非破壞性的厚度量測法詳細了解其全面厚度之差異;
根據(jù)鍍層厚度量測的結(jié)果,重新安排陽極的位置。
②陽極接點導(dǎo)電不良
操作中使用伏特計檢查每一支陽極與陽極桿是否接觸良好;
清潔所有接點,并確保陽極桿所有接點的電位降落(Voltage Drop)都要相同
③鍍液中硫酸濃度不足,導(dǎo)電不良
檢查硫酸濃度并調(diào)整至最佳值
④銅離子含量過高
分析檢查銅離子含量;
稀釋槽液或改用不溶性陽極直到銅離子濃度降至規(guī)定范圍內(nèi);
在電鍍槽閑置期間取出銅陽極。
⑤攪拌太過激烈
降低攪拌程度
⑥循環(huán)過濾之攪拌方式不良
出水口位置應(yīng)座落在掛板的正下方,使對全板面能產(chǎn)生更為均勻的液流。
問題八、鍍液槽面起泡
可能原因
解決方法
①循環(huán)泵中藏有空氣
將循環(huán)泵與管路加滿水以免空氣殘留;
檢查槽內(nèi)液位和進水口的高度,必要時將液位提高。
②槽液過度攪動,過濾渦流
降低攪拌程度并重新設(shè)計溢流型態(tài),以避免溶液產(chǎn)生過多氣泡。
③潤濕劑添加過量
減少添加量
問題九、通孔銅壁出現(xiàn)破洞
可能原因
解決方法
①化學(xué)銅厚度不足或未能將孔壁全部蓋滿
調(diào)整化學(xué)銅槽液成分;增加化學(xué)銅槽之浸鍍時間;若化學(xué)銅層厚度不足,在板子進入鍍銅槽時須采用較低電流去鍍銅;
電鍍銅時孔內(nèi)有氣泡存在(增加槽液或板子移動率,務(wù)使鍍液能流過孔內(nèi))
②鍍液中有顆粒物浮游
徹底過濾槽液;電鍍前噴洗板面;檢查電鍍前之槽液是否有懸浮物
③化學(xué)銅層遭到溶解
檢查電鍍前處理微蝕或浸酸液之濃度;
不可使用不相容的酸液,如氟硼酸或含有硝酸或氫氟酸等專利性酸鹽;
板子下端進入鍍槽中時電流尚未開啟;
減少微蝕的時間。
④電鍍前酸浸時間過長
減少酸浸時間
問題十、鍍銅層表面長瘤
可能原因
解決方法
①槽液中有顆粒物出現(xiàn)
槽液應(yīng)連續(xù)過濾,每小時至少要翻槽2-3次
②陽極未裝陽極袋或陽極袋已破裂
裝設(shè)陽極袋,并檢查陽極袋是否有破裂的情況
③鍍液遭外來固體粒子所污染
檢查鍍槽內(nèi)是否有外物掉落(例如板子,鉗子,掛架,工具);檢討孔壁是否有遭到其它槽液所帶入的懸浮物質(zhì),如整孔劑之膠體粒子吸附等;清洗陽極袋及濾芯;
④陽極含磷量過低
確認陽極磷含量介于0.04%-0.06%之間
⑤鍍銅槽內(nèi)的陽極型式有問題
對所用的陽極進行功能性試驗
⑥由于陽極析出污染物所致
陽極袋的開口務(wù)必要超出鍍液面;定期更換陽極袋;檢查陽極袋是否有破洞;某種型式的陽極會導(dǎo)致鍍瘤的產(chǎn)生。
問題十一、鍍銅層出現(xiàn)凹點
可能原因
解決方法
①鍍銅槽中空氣攪拌不足或不均勻
增加空氣攪拌并確保均勻分布
②槽液遭到油漬污染
進行活性炭處理及過濾,確認污染來源并加以杜絕
③過濾不當
持續(xù)過濾槽液以去除任何可能的污染物
④鍍槽內(nèi)特定位置出現(xiàn)微小氣泡
可能是過濾泵有空氣殘存,設(shè)法改善之
⑤干膜顯影不足導(dǎo)致線路出現(xiàn)鋸齒狀
加強顯影液之沖刷與后水洗
⑥鍍銅前板面清潔不良
檢討清潔與微蝕制程以及相關(guān)的水洗動作
問題十二、鍍層出現(xiàn)條紋狀
可能原因
解決方法
①添加劑含量失控(通常添加劑過量時會出現(xiàn)條紋)
試用少量活性炭將多余添加劑移除
②所用干膜與硫酸銅鍍液不相容導(dǎo)致有機物溶入鍍液中
確認所用干膜與鍍銅液之相容性
③水洗不潔導(dǎo)致清潔劑被帶入鍍液中
檢查水洗水流量及水洗時間是否足夠;
改用噴射方式水洗
④槽體,過濾器,掛架等材質(zhì)可能和硫酸銅鍍液不相容
操作前先確認設(shè)備與鍍液的相容性
⑤陽極袋槳料所導(dǎo)致的污染
使用前先將陽極袋及濾芯的槳料清洗干凈
⑥干膜阻劑中的附著力促進劑未能完全去除
檢討清潔制程
問題十三、鍍層脆裂
可能原因
解決方法
①因光劑裂解或干膜或清潔劑所造成槽液的有機物污染
定期做活性炭過濾處理
②光澤劑添加過量
試用少量活性炭將多余光澤劑移除
③電流密度超出操作范圍
按添加劑規(guī)定的電流密度操作
④鍍液溫度超出正常范圍,正常為21-26℃
檢查鍍液溫度以確保操作是在正確的溫度下進行
⑤添加劑含量不足
以赫爾槽或電化學(xué)法進行分析,必要時可多加添加劑
⑥銅離子含量偏低
改善鍍液流動情況并增加攪拌
⑦孔內(nèi)銅厚不足而容易斷裂
通??足~至少要有0.8mil的厚度,必要時降低電流密度以達深孔的起碼銅厚
⑧多層板之板厚Z方向膨脹過度
檢討電路板特性需求,客戶要求之規(guī)格以及壓板制程。
問題十四、鍍層粗糙有銅粉
可能原因
解決方法
①鍍液過濾不良
加強過濾
②硫酸濃度不夠
分析并補充硫酸
③電流過大
適當降低
④添加劑失調(diào)
通過赫爾槽試驗調(diào)整
問題十五、低電流去鍍層發(fā)暗
可能原因
解決方法
①硫酸含量低
分析補充硫酸
②銅濃度高
分析調(diào)整銅濃度
③金屬雜質(zhì)污染
小電流處理
④光亮劑濃度不當或選擇不當
調(diào)整光亮劑量或另選品種
問題十六、鍍層有麻點、針孔
可能原因
解決方法
①前處理不干凈
加強鍍前處理
②鍍液有油污
活性炭處理
③攪拌不夠
加強攪拌
④添加劑不足或潤濕劑不足
調(diào)正或補充
問題十七、鍍層發(fā)暗、發(fā)霧
可能原因
解決方法
①鍍層中銅、砷、銻等雜質(zhì)
小電流電解
②氯離子、硝酸根離子污染
加絮凝劑過濾
③Sn2+不足,Sn4+過多
調(diào)整槽液
④電流過高或過低
調(diào)整電流密度至規(guī)定值
問題十八、板面銅粒
可能原因
解決方法
①電流過大
降低電流到標準范圍
②夾棍上有殘銅
硝酸浸泡去除
③陽極袋破損
更換陽極袋
④沉銅板不良
磨板后或用砂紙打磨后磨板返工
問題十九、電鍍夾膜
可能原因
解決方法
①電鍍面積,電流密度,面積,數(shù)量,料號等參數(shù)輸入錯誤
所有信息以及電鍍參數(shù)參照《電鍍參數(shù)自動化軟件》,減少錯誤發(fā)生,并改善參數(shù)準確性。
②掛板方向不合理,板邊緣易夾膜
測試電鍍線均勻性規(guī)律,規(guī)定上板方式
③同一飛巴,圖形孤立與圖形均勻的板混掛一起,孤立線路板容易鍍厚夾膜,圖形均勻的板銅厚相對偏薄。
建立混掛要求,日常檢查并強調(diào)執(zhí)行。
④飛巴兩端因邊緣效應(yīng),飛巴兩端的板邊易鍍厚夾膜,沒按要求加分流條
制定要求,所有板飛巴兩端加邊條,不能有空夾仔。
⑤銅厚不夠返工板的處理方式?jīng)]規(guī)定
建立銅厚不夠返工板的處理方式流程要求
⑥電鍍均勻性不佳,需要調(diào)整。
電鍍線能力穩(wěn)定保持,電鍍均勻性按要求測試調(diào)整
⑦干膜厚度不足,不滿足鍍銅要求。
部分難度訂單和間距較小訂單,外光是用50um干膜
⑧底銅厚度偏薄,電鍍加厚過多
有表銅要求的,因?qū)訅旱足~實際銅厚偏差,偏薄,需電鍍多加厚銅防止鍍厚夾膜
⑨ERP備注錯誤或圖形設(shè)計、流程設(shè)計不合理
建立產(chǎn)權(quán)預(yù)防機制,對高層板、批量板下線進行篩選,優(yōu)化。
⑩實驗室切片讀數(shù)誤差大;切片位置不合理;切片研磨效果不好等因素影響
切片讀數(shù)偏差,(需做MSA)要求相差較小不能判斷時使用500X的讀數(shù);
取樣位置:按照取樣要求,減少誤判返工;
切片研磨及微蝕效果,做出圖片規(guī)定,減少讀數(shù)偏薄。
?電流 電鍍時間需適當調(diào)整
調(diào)小電流,延長電鍍時間
?掛板不合理
交差、正反掛板,盡量保證電鍍面積接近
?工程拼版設(shè)計不合理
將線路密集區(qū)或獨立線區(qū)往板內(nèi)旋轉(zhuǎn)

來源:PCB技術(shù)匯總