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清除因子及清除率計算及結(jié)果判斷

嘉峪檢測網(wǎng)        2023-08-30 08:14

一、 指南要求
 
ICH M7及ICH M7Q&A
 
1.1 ICH M7 Option 4要求:
 
如果影響基毒雜質(zhì)水平的化學(xué)過程和工藝參數(shù)已知,并且該雜質(zhì)在最終API中高于可接受限度的風(fēng)險可以忽略,那么可以使用過程控制代替基毒雜質(zhì)分析檢測。
該風(fēng)險評估可基于理化性質(zhì)和影響清除過程的因子(清除因子),包括化學(xué)反應(yīng)性,溶解度,揮發(fā)性,電離度和其他設(shè)計用于去除該雜質(zhì)的物理過程。
 
1.2 ICH M7 Q&A要求:
 
在ICH M7的問答指南中,對Option 4的策略有如下幾個要求:
Question 8.1 什么時候適合使用Option 4控制策略?
Answer: 
當(dāng)一種致突變雜質(zhì)被證明存在于最終原料藥中的風(fēng)險可以忽略時(例如,1%的TTC或者AI)。一般不適用于在最終合成步驟引入的基毒雜質(zhì)。
Question 8.2 當(dāng)使用Option 4控制策略,預(yù)測清除因子時,應(yīng)考慮哪些因素?
Answer:
1. 預(yù)測清除因子的計算應(yīng)基于API工藝,需考慮每步的反應(yīng)性、溶解度、揮發(fā)性和其他因素;因為預(yù)測清除因子通常不依賴于加標(biāo)去除試驗,故計算時應(yīng)使用保守的方法,預(yù)測可基于文獻及軟件。
2. 用于驗證預(yù)測性清除計算方法的信息(即工藝相關(guān)條件下的雜質(zhì)反應(yīng)性或溶解度數(shù)據(jù)、加標(biāo)和清除數(shù)據(jù))應(yīng)以生產(chǎn)工藝、最終原料藥的風(fēng)險以及藥物開發(fā)階段的知識為指導(dǎo)。
3. 對于在申請中提交的預(yù)測性清除計算的依據(jù),可包括從高度概括的總結(jié)到關(guān)于計算的詳細信息(如單個清除因子的科學(xué)依據(jù))以及其他支持性資料。當(dāng)原料藥中的預(yù)測雜質(zhì)水平接近TTC時,宜提供更詳細的相關(guān)計算資料。即便當(dāng)時未提交,也應(yīng)在需要時能夠提供有關(guān)如何推導(dǎo)得出各清除因子的資料。
Question 8.6 在生成分析實驗數(shù)據(jù)以支持Option 3和4控制策略時,對于生產(chǎn)規(guī)模的影響應(yīng)如何考慮?
Answer:
當(dāng)計算清除因子或確定中間過程控制點時,實驗室規(guī)模的實驗通常即已足夠。這些研究應(yīng)采用申請中所述的最終工藝,并應(yīng)考慮因?qū)嶒炇液蜕a(chǎn)環(huán)境之間的規(guī)模和設(shè)備相關(guān)差異導(dǎo)致的潛在影響(如異質(zhì)性系統(tǒng)中混合對雜質(zhì)水平的影響、液-液相分離的效果等)。在觀察到規(guī)模依賴性的情況下,建議對以中試規(guī)?;蛏虡I(yè)規(guī)模生產(chǎn)的批次進行確認性檢驗。對中試規(guī)?;蛏虡I(yè)規(guī)模的加標(biāo)研究不做要求。
 
二、預(yù)測(理論)清除因子計算過程
 
理論清除因子的計算主要考慮的是雜質(zhì)的反應(yīng)性、理化性質(zhì)和后處理中去除能力,根據(jù)這些特性對每個操作單元進行評分,計算出雜質(zhì)產(chǎn)生后的工藝過程對其去除能力的理論去除因子。各項評分如下:
 
三、清除率計算
 
根據(jù)所需清除因子及理論清除因子計算出基毒雜質(zhì)的清除率,其中所需清除因子是根據(jù)基毒雜質(zhì)產(chǎn)生量及TTC限度計算得來。具體計算過程如下舉例:
假設(shè)根據(jù)二、理論清除因子計算得出理論清除因子為1.2 × 108;基毒雜質(zhì)為一個中間體,則在工藝中產(chǎn)生的量定為100%(可以根據(jù)收率進行調(diào)整),TTC限度為11ppm。
為了將雜質(zhì)控制在TTC限度以下,所需的清除因子計算如下:
 
 
 
四、根據(jù)清除率進行Option 4控制策略合理性判斷【1】:
備注:理論清除因子和清除率的計算可以按以上過程計算,也可直接通過軟件進行預(yù)測,Lhasa公司已推出了清除因子計算軟件Mirabilis,并有較多制藥大廠正在使用。
且清除因子計算不僅限于基毒雜質(zhì),也適用于一般試劑、化合物等。
 
五、清除率計算舉例
 
坎地沙坦中NDMA和NDEA產(chǎn)生可能性推算:
背景介紹:
坎地沙坦合成路線中,第二步用到了三乙胺,其他步驟未用到二級/三級胺;第五步為成四氮唑環(huán)反應(yīng),引入了亞硝酸鈉;經(jīng)歷9個步驟后得到坎地沙坦API。
論述思路:
1. 論述第二步引入的三乙胺在第五步基本去除;
2. 即使有少量三乙胺在第五步與亞硝酸鈉反應(yīng)生成了NDEA,這些少量的NDEA也能在API中被去除到可接受限度以下。
計算過程:
三乙胺理論清除因子計算
主要清除三乙胺的步驟為其引入的第二步,其在第二步的各個操作單元的清除因子計算如下(通過軟件Mirabilis計算結(jié)果):
 
 
 
解釋:在步驟二反應(yīng)結(jié)束后,存在減壓濃縮(70-75ºC)過程,該過程可以去除大量三乙胺(沸點89ºC),但未檢測減壓濃縮后反應(yīng)液中三乙胺含量,故根據(jù)濃縮條件及濃縮體積(濃縮95%體積),假定三乙胺殘留5%(50000 ppm,保守估計,較差條件結(jié)果)。
 
第二步到第四步三乙胺總的清除因子計算結(jié)果如下:
 
假定在第四步殘留的三乙胺將全部用于轉(zhuǎn)化為NDEA,那么為了確保NDEA在API中被控制在限度范圍內(nèi)(雖然NDEA限度為26.5 ng/day,坎地沙坦酯的MDD為32 mg/day;但Guidance for Industry Control of Nitrosamine Impurities in Human Product中有規(guī)定,對于MDD小于880mg/day的產(chǎn)品,總亞硝胺雜質(zhì)含量≤ 0.03 ppm,故在該產(chǎn)品中NDEA使用限度30 ppb),那么第四步的三乙胺殘留量應(yīng)為30 ppb(三乙胺和NDEA分子量相近),在這種情況下,三乙胺的清除率計算如下:
 
所需清除因子 = 三乙胺殘留量 / 三乙胺控制限度 = 50000 ppm / 30 × 10-3 ppm =1.67 ×106
清除率 = 理論清除因子 / 所需清除因子 = 486
清除率在100-1000之間,故可以提供相關(guān)數(shù)據(jù)來支持Option 4的控制策略。
 
參考文獻
【1】Michael J. Burns, Andrew Teasdale, Eric Elliott, and Chris G. Barber (2020), Controlling a Cohort: Use of Mirabilis-Based Purge Calculations to Understand Nitrosamine-Related Risk and Control Strategy Options (該文獻與ICH M7中所引用的發(fā)表于2013年的關(guān)于清除因子的文獻均隸屬Andrew Teasdale)
 
 

 
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來源:注冊圈

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