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淺談ESD防護(hù)—電阻的妙用與失效分析

嘉峪檢測(cè)網(wǎng)        2023-10-28 09:26

無(wú)源器件在電路中一直扮演著很重要的角色,同樣在ESD設(shè)計(jì)中也需要應(yīng)用無(wú)源器件,亦或是無(wú)源器件也同樣要承受ESD沖擊。所以這一期針對(duì)無(wú)源器件:電阻在ESD設(shè)計(jì)中的應(yīng)用與面對(duì)ESD的失效機(jī)理做一個(gè)討論。
 
1.1N-diffusion resistor的ESD應(yīng)用。
 
N-diffusion resistor在ESD防護(hù)電路中主要有如下應(yīng)用:
 
CDM防護(hù)的串聯(lián)電阻。
 
N-well與P-sub的寄生二極管用以CDM防護(hù)。
 
NMOS的鎮(zhèn)流電阻
 
圖一.在HBM-CDM二級(jí)防護(hù)中的N-diffusion電阻。
 
在該結(jié)構(gòu)是最為常見的針對(duì)IO接口的ESD防護(hù)電路,該電路中靠近PAD端的二極其設(shè)計(jì)目的是針對(duì)HBM進(jìn)行防護(hù),所以尺寸很大,導(dǎo)通電阻較小。而后一級(jí)的二極管只需要針對(duì)CDM進(jìn)行防護(hù),所以尺寸較小。而兩級(jí)二極管之中的N-diffusion電阻的作用一便是作為串聯(lián)電阻,確保HBM的ESD電流不會(huì)流入第二級(jí)中。因?yàn)榈诙?jí)的尺寸較小,過電流能力弱,所以需要N-diffusion電阻讓第二級(jí)在HBM中只分流較小的電流。(CDM和HBM的區(qū)別前面的文章已經(jīng)提到過,針對(duì)這種超高頻的靜電流,只需要寄生電容很小的二極管便能實(shí)現(xiàn)泄放)
作用二是N-diffusion與P-sub構(gòu)成了一個(gè)寄生二極管。當(dāng)P-sub中集聚了大量電子且PAD接觸到導(dǎo)體后,P-sub中的電子利用該寄生二極管泄放CDM電流,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)NMOS的CDM保護(hù)作用,避免Gate損壞。(目前這種設(shè)計(jì)比較少見)
 
圖二. N-diffusion電阻作為NMOS鎮(zhèn)流電阻。
 
圖三. N-diffusion電阻作為NMOS鎮(zhèn)流電阻。
 
無(wú)論是GGNMOS還是GCNMOS都需要NMOS的drain端直接承受ESD的沖擊,所以為了避免MOS管的損壞,需要在drain端設(shè)計(jì)鎮(zhèn)流電阻,一方面能確保ESD電流的均勻分布,一方面能保護(hù)器件不在ESD中損壞。除了用N-well resistor 作為NMOS鎮(zhèn)流電阻外,還可以將drain端拉寬,并進(jìn)行salicide block處理。
 
1.2 N-WeLL resisitor的ESD作用。
 
N-Well電阻在ESD防護(hù)電路中主要起到的是鎮(zhèn)流電阻的作用。
 
圖四.N-well resistor 作為NMOS鎮(zhèn)流電阻。
 
這種設(shè)計(jì)的目的與N-diffusion電阻作為NMOS鎮(zhèn)流電阻的設(shè)計(jì)思路一致。但是N-Well鎮(zhèn)流有其獨(dú)特的優(yōu)勢(shì):
1.因?yàn)镹-Well的存在,ESD電流需要流過Nwell才能到達(dá)drain端,其鎮(zhèn)流效果更好,NMOS的drain端承受的靜電作用較少。
2.N-Well中載流子濃度較低,所以這種鎮(zhèn)流結(jié)構(gòu)中N-well與MOS中N+接觸面會(huì)存在異質(zhì)結(jié),該異質(zhì)結(jié)有利于GGNMOS中寄生三極管的擊穿。
3.不需要silicide block的mask。
 
4.與NMOS的集成度更高,能降低接觸電容。
 
圖五.N-well resistor 作為NMOS鎮(zhèn)流電阻。
 
2. P-diffusion resisitor的ESD應(yīng)用
 
P-diffusion resisitor的應(yīng)用與N-diffusion resistor的應(yīng)用類似,主要作用于HBM-CDM二級(jí)防護(hù)中,一二級(jí)間的分流電阻,避免二級(jí)保護(hù)被HBM所損壞。同時(shí)P-diffusion resisitor中的P+與PMOS中的N-Well形成一個(gè)寄生二極管,實(shí)現(xiàn)對(duì)N-WeLL中積聚的負(fù)電荷的泄放,實(shí)現(xiàn)對(duì)PMOS的CDM防護(hù)。另外P-diffusion resisitor也可以實(shí)現(xiàn)對(duì)GDPMOS中PMOS源端的保護(hù)。
 
圖六.在HBM-CDM二級(jí)防護(hù)中的P-diffusion電阻。
 
3. POLY 電阻的ESD應(yīng)用
 
1.1與2.1已經(jīng)提到了diffusion電阻用于CDM防護(hù),但是這兩種電阻有個(gè)明顯弊端,N-diffusion只能保護(hù)NMOS,P-diffusion只能保護(hù)PMOS,但是PMOS和NMOS都有CDM損壞風(fēng)險(xiǎn),diffusion電阻無(wú)法做到兩者兼顧。目前最主流的HBM-CDM二級(jí)防護(hù)的結(jié)構(gòu)如圖所示:
 
圖七.POLY電阻的ESD應(yīng)用。
 
用POLY電阻作為二級(jí)防護(hù)的電阻,讓其只起到分流的作用。把P-diode與PMOS做到同一個(gè)阱中,當(dāng)PMOS中的N-WeLL中因?yàn)橥饨珉妶?chǎng)積聚了很多負(fù)電荷后,負(fù)電荷可以通過P-diode與N-Well間的寄生二極管泄放到PAD,實(shí)現(xiàn)對(duì)PMOS的CDM防護(hù)。同理把N-diode與NMOS做到同一個(gè)阱中,當(dāng)在外界作用下NMOS中的P-Well積聚了大量正電荷,這些正電荷便可通過N-diode泄放,實(shí)現(xiàn)對(duì)NMOS的CDM防護(hù)。
 
圖八.N-diode實(shí)現(xiàn)NMOS的CDM防護(hù)機(jī)理示意圖。
 
POLY電阻用于二級(jí)防護(hù),需要根據(jù)前后級(jí)的類型選擇阻值,如果前后級(jí)都是二極管,其阻值不需很大。如果前后級(jí)是GGNMOS等需要擊穿的器件,阻值就需要大一些。
有些設(shè)計(jì)會(huì)在ESD防護(hù)單元后加電阻,如圖所示。
 
圖九.ESD后置POLY電阻。
 
該電阻的作用是保護(hù)Input buffer的柵極。ESD器件的Second break down Voltage 的電壓會(huì)分壓一部分到電阻上,從而保護(hù)了內(nèi)部電路的柵極。
POLY電阻還應(yīng)用于體鎮(zhèn)流電阻,用來(lái)提高器件的ESD魯棒性。
 
圖十.體鎮(zhèn)流電阻版圖。
 
體鎮(zhèn)流電阻的作用是通過鎮(zhèn)流電阻,促使體電位分布均勻,使得GGNMOS等器件在應(yīng)對(duì)ESD電流時(shí)均勻開啟,提高ESD過電流能力。同時(shí),該電阻能減少GGNMOS進(jìn)入Holding Voltage后的開啟電阻。 
 
圖十一.體鎮(zhèn)流電阻示意圖。
 
4.電阻的ESD失效分析
 
在電路中無(wú)論是ESD防護(hù)單元還是其他單元,都有承受ESD沖擊的風(fēng)險(xiǎn)。這里討論下電阻在ESD下的失效機(jī)理。電阻在面對(duì)ESD時(shí)的失效原因是由不同材料接觸面的熱失配梯度造成(不同材料的接觸面產(chǎn)生熱力學(xué)梯度,時(shí)間一久或者梯度過大,就會(huì)造成失效)。目前主流工藝結(jié)點(diǎn)下,接觸孔主要是由鎢做成,互聯(lián)主要由Cu組成。Silicide電阻和Silicide Block電阻的失效位置和機(jī)理有所區(qū)別。Silicide電阻的失效主要發(fā)生在接觸孔和poly的接觸面,因?yàn)殒u合金和poly上的NiSi緩沖層的方塊電阻差值較大,當(dāng)過大的電流通過時(shí),poly接觸面與W接觸孔產(chǎn)生熱梯度,從而造成失效。Silicide Block電阻主要失效點(diǎn)在Cu互聯(lián),因?yàn)镾ilicide Block電阻的電阻率更大,POLY和NiSi緩沖層的結(jié)溫度更高,而Cu互聯(lián)更易受高結(jié)溫的影響,該高溫會(huì)傳遞到Cu互聯(lián)上從而造成失效。
 
圖十二.兩種電阻失效后的SEM/TEM圖片。
 
可以看出Silicide電阻的失效主要發(fā)生在鎢合金的接觸孔和多晶硅處。而Silicide Block電阻的失效主要發(fā)生在Cu互聯(lián)上。
 
圖十三.兩種電阻電熱特性對(duì)比。
 
從圖中可以看出兩種電阻電熱特性差距較大。Silicide Block電阻阻值較大,但是節(jié)溫上升幅度大,ESD下容易失效。而Silicide電阻阻值較小,但是結(jié)溫度上升較慢,針對(duì)ESD的魯棒性較好。
 
之前我手頭一個(gè)項(xiàng)目就是IO接口處的電阻發(fā)生了失效,當(dāng)時(shí)出于面積的考慮選用了類似Silicide Block的High POLY電阻,所觀察的現(xiàn)象也是連接金屬出現(xiàn)問題。而出現(xiàn)該問題是因?yàn)镋SD模塊與內(nèi)部器件不匹配,通過調(diào)整ESD模塊解決的這個(gè)問題。
 

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來(lái)源:番茄ESD小棧

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