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嘉峪檢測(cè)網(wǎng) 2024-01-16 11:14
| 工藝 | 用途 | 替代方案 |
| 流程 | ||
| 光刻 | 光刻膠 | 富士膠片Krf (248 nm)、DOWTM光刻膠已滿足PFOA或PFOS Free,但PFAS可替代情況尚不明確,部分產(chǎn)品中可用碳?xì)浠鶟?rùn)滑脂、二硫化鉬、石墨替代 |
| 光刻膠 | 無(wú)替代方案 | |
| (光敏劑) | ||
| 光刻膠(光致產(chǎn)酸劑,PAG) | 能形成強(qiáng)酸的無(wú)氟替代品,如芳香族PAG、雜芳香族PAG(三苯基硫鎓苯并[b]噻吩- 2-磺酸,4(或7) -硝基-離子(1-)(TPS TBNO))、不含氟的PAG | |
| 光刻膠 | 無(wú)替代方案 | |
| (猝滅劑) | ||
| 顯影 | 顯影液添加劑 | 無(wú)氟表面活性劑的專利已見(jiàn)報(bào)道,但可替代情況尚不明確 |
| 清洗 | 漂洗液添加劑 | 可替代情況尚不明確 |
| 刻蝕 | 干法刻蝕劑、 | 能形成強(qiáng)酸、具有低表面張力、低折射率的替代品 |
| 濕法刻蝕劑 | ||
| 清潔刻蝕劑 | 可替代情況尚不明確 | |
| 晶圓減薄 | 載體晶圓表面的不粘涂層 | 低表面張力的替代品 |
| 焊接 | 氣相焊接 | 無(wú)替代方案 |
| 傳熱介質(zhì) | ||
| 其他 | 減反射膜 | AZ Aquatar 8(氟烷酸酯)、 |
| DOWTM減反射膜已滿足PFOA或PFOS Free,但PFAS可替代情況尚不明確 | ||
| 微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)加速度計(jì)、 | 無(wú)替代方案 | |
| MEMS圖像傳感器 | ||
| 模具、管道、化學(xué)容器、反應(yīng)表面等惰性元件 | 無(wú)氟聚合物,如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺等 | |
| 半導(dǎo)體器件冷卻劑 | 礦物油、合成油、天然油、碳?xì)浠衔锪黧w | |
| 真空泵工作液 | 性質(zhì)穩(wěn)定、非反應(yīng)性的替代品 |

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