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12項(xiàng)集成電路電磁兼容國家標(biāo)準(zhǔn)通過審查

嘉峪檢測網(wǎng)        2024-04-11 08:43

全國集成電路標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC599)于2024年3月22日在北京召開了標(biāo)委會(huì)一屆二次全體委員會(huì)議,會(huì)上審查并通過了中國電子技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化研究院主辦的12項(xiàng)集成電路電磁兼容國家標(biāo)準(zhǔn),具體審查標(biāo)準(zhǔn)如下。

 

序號

項(xiàng)目名稱

計(jì)劃編號

國/行標(biāo)

采標(biāo)情況

1

集成電路 電磁發(fā)射測量 第1部分: 通用條件和定義

20221350-T-339

國標(biāo)

IEC 61967-1:2018

2

車輛集成電路電磁兼容試驗(yàn)通用規(guī)范

20214062-T-339

國標(biāo)

自主制定

3

集成電路電磁兼容建模 第3部分:集成電路電磁干擾特性仿真模型 輻射發(fā)射建模(ICEM-RE)

20213161-T-339

國標(biāo)

IEC 62433-3:2017

4

集成電路 電磁抗擾度測量 第9部分:輻射抗擾度測量 表面掃描法

20214711-T-339

國標(biāo)

IEC TS 62132-9:2014

5

集成電路 電磁發(fā)射測量 第2部分:輻射發(fā)射測量 TEM小室和寬帶TEM小室法

20213162-T-339

國標(biāo)

IEC 61967-2:2005

6

集成電路電磁兼容建模 第2部分:集成電路電磁干擾特性仿真模型 傳導(dǎo)發(fā)射建模(ICEM-CE)

20213160-T-339

國標(biāo)

IEC 62433-2:2017

7

集成電路 電磁抗擾度測量  第5部分:工作臺(tái)法拉第籠法

20214061-T-339

國標(biāo)

IEC 62132-5:2005

8

集成電路 電磁抗擾度測量  第3部分:大電流注入(BCI)法

20214060-T-339

國標(biāo)

IEC 62132-3:2007

9

集成電路 電磁發(fā)射測量 第5部分:傳導(dǎo)發(fā)射測量 工作臺(tái)法拉第籠法

20214063-T-339

國標(biāo)

IEC 61967-5:2003

10

集成電路 電磁發(fā)射測量 第8部分:輻射發(fā)射測量 帶狀線法

20214064-T-339

國標(biāo)

IEC 61967-8:2011

11

集成電路  電磁發(fā)射測量  第3部分:輻射發(fā)射測量  表面掃描法

20214069-T-339

國標(biāo)

IEC TS 61967-3:2014

12

集成電路 電磁發(fā)射測量 第6部分:傳導(dǎo)發(fā)射測量 磁場探頭法

20214066-T-339

國標(biāo)

IEC 61967-6:2008

參會(huì)委員在聽取標(biāo)準(zhǔn)編制組就標(biāo)準(zhǔn)基本情況、編制過程、征求意見及其匯總處理情況、預(yù)審和意見處理情況等匯報(bào)后,認(rèn)為該12項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)的編制過程符合國家標(biāo)準(zhǔn)編制程序,技術(shù)內(nèi)容合理、具有可操作性,處于國內(nèi)先進(jìn)水平。參會(huì)委員一致同意通過對該12項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)的審定,同意編制工作組根據(jù)本次會(huì)議的意見修改后提交齊套報(bào)批資料。

 

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來源:Internet

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