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近日，我校（華中科技大學）武漢光電國家研究中心團隊在國內(nèi)率先攻克合成光刻膠所需的原料和配方助推我國芯片制造關鍵原材料突破瓶頸，其研發(fā)的T150A光刻膠系列產(chǎn)品已通過半導體工藝量產(chǎn)驗證，實現(xiàn)了原材料全部國產(chǎn)配方全自主設計，有望開創(chuàng)國內(nèi)半導體光刻制造新局面。

光刻膠是一種感光材料，用于芯片制造的光刻環(huán)節(jié)，工作原理類似于照相機的膠卷曝光。芯片制造時，會在晶圓上涂上光刻膠，在掩膜版上繪制好電路圖。當光線透過掩膜版照射到光刻膠上會發(fā)生曝光，經(jīng)過一系列處理后，晶圓上就會得到所需的電路圖。由于光刻膠是芯片制造的關鍵材料，國外企業(yè)對其原料和配方高度保密，目前我國所使用的光刻膠九成以上依賴進口。

武漢光電國家研究中心團隊研發(fā)的這款半導體專用光刻膠對標國際頭部企業(yè)主流KrF光刻膠系列。相較于國外同系列某產(chǎn)品，T150A在光刻工藝中表現(xiàn)出的極限分辨率達到120nm，且工藝寬容度更大、穩(wěn)定性更高、留膜率更優(yōu)，其對刻蝕工藝表現(xiàn)更好，通過驗證發(fā)現(xiàn)T150A中密集圖形經(jīng)過刻蝕，下層介質的側壁垂直度表現(xiàn)優(yōu)異。

團隊在電子化學品領域深耕二十余載，立足于關鍵光刻膠底層技術研究，致力于半導體專用高端電子化學品原材料和光刻膠的開發(fā)，并以新技術路線為半導體制造開辟新型先進光刻制造技術，同時為材料的分析與驗證提供全面的手段。

團隊負責人表示：“以光刻技術的分子基礎研究和原材料的開發(fā)為起點，最終獲得具有自主知識產(chǎn)權的配方技術，這只是個開始。我們團隊還會發(fā)展一系列應用于不同場景下的KrF與ArF光刻膠，致力于突破國外卡脖子關鍵技術，為國內(nèi)相關產(chǎn)業(yè)帶來更多驚喜。”

本文來自“湖北日報、華中科技大學”。