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2025年全球半導體行業(yè)10大技術(shù)趨勢

嘉峪檢測網(wǎng)        2024-12-19 12:17

2024年,全球半導體行業(yè)雖然未像預期那般出現(xiàn)全面復蘇,但生成式人工智能(AIGC)、汽車電子和通信技術(shù)的快速發(fā)展,卻奠定了底層技術(shù)在2025年的基礎,為半導體行業(yè)在新一年中回暖帶來了新的希望。

 

在這一年中,我們見證了碳化硅(SiC)功率器件在電動汽車中的廣泛應用,芯粒(Chiplet)技術(shù)在高性能AI芯片設計中的創(chuàng)新應用,以及RISC-V架構(gòu)在汽車電子和其他領(lǐng)域的快速崛起。此外,第四代半導體材料——如氧化鎵(Ga2O3)和氮化鋁(AlN)也開始嶄露頭角,展現(xiàn)出巨大的潛力。

 

在市場方面,盡管全球經(jīng)濟面臨諸多挑戰(zhàn),但半導體行業(yè)依然保持了強勁的增長勢頭。根據(jù)世界半導體貿(mào)易統(tǒng)計組織數(shù)據(jù)預測,2024年全球半導體市場規(guī)模預計將達到6112億美元,同比增長7%。特別是在汽車電子、工業(yè)自動化和消費電子等領(lǐng)域,市場需求持續(xù)旺盛,推動了整個行業(yè)的快速發(fā)展。

 

展望2025年,預計全球半導體市場將增長12.5%,估值將達到6870億美元。本文基于這一年中與業(yè)內(nèi)專家和廠商的交流,總結(jié)分析后挑選出了2025年全球半導體將出現(xiàn)或高速發(fā)展的10大技術(shù)趨勢,探討這些先進技術(shù)的發(fā)展方向和市場前景。

 

1、SiC、Chiplet和RISC-V聯(lián)手推動汽車半導體發(fā)展

 

芯片作為搶占汽車智能化賽道的制高點,已成為全球智能汽車競爭的關(guān)鍵核心。2025年,SiC、Chiplet和RISC-V三大技術(shù)將有望繼續(xù)聯(lián)手推動汽車半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展(圖1)。

 

圖1:SiC、Chiplet和RISC-V三大技術(shù)有望繼續(xù)推動汽車半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。(來源:IDC)

 

“800V+SiC”將成為高端電動汽車標配

 

目前看到的一個明顯趨勢,是隨著汽車制造商對更高能效和續(xù)航能力的追求,整車廠在接下來的兩三年里會發(fā)布更多搭載800V平臺的車型,對SiC功率器件的需求會進一步增加??梢哉f,“800V+SiC”已經(jīng)基本成為高端電動汽車標配。

我們從三個方面對碳化硅技術(shù)未來的發(fā)展趨勢做一些判斷。首先,從材料來看,基于成本、良率的需求,晶圓材料正在向大尺寸、低缺陷SiC襯底及外延制備的方向發(fā)展;從器件來看,追求更低的SiC MOSFET比導通電阻,同時在可靠性、魯棒性更接近硅基IGBT水準;從工藝來看,繼續(xù)研究制約SiC MOSFET發(fā)展的基礎科學問題,比如通過采用高純度SiC襯底、改進柵氧化層制作工藝來提升溝道遷移率等。

 

Chiplet芯片成為汽車高性能SoC開發(fā)新突破口

 

作為搭積木芯片設計的技術(shù)代表,Chiplet是一種降本增效、解決汽車高性能SoC芯片需求的創(chuàng)新性方案,其功能獨立成Chiplet,通過選擇成熟工藝和芯片就能提高生產(chǎn)良率,縮短開發(fā)周期。但挑戰(zhàn)也很明顯。例如,不同廠商不同芯片之間的通信接口存在差異;隨著芯片集成度的提高,功耗、散熱和數(shù)據(jù)傳輸安全都面臨更高要求。

 

RISC-V成為Arm架構(gòu)之后的新選擇

 

與x86和Arm相比,RISC-V的指令集更為精簡,沒有歷史遺留問題,且功耗很低。這些特點使得RISC-V非常適合用于提升汽車系統(tǒng)的整體性能,同時降低制造成本。具體應用方面,RISC-V處理器可被廣泛應用于車載信息娛樂系統(tǒng)、自動駕駛控制系統(tǒng)、電池管理系統(tǒng)和車輛網(wǎng)絡通信等關(guān)鍵領(lǐng)域,未來3至5年內(nèi),RISC-V架構(gòu)芯片在汽車行業(yè)的出貨量預計將以每年66%的速度增長。

 

2、第四代半導體材料,氧化鎵將直接挑戰(zhàn)碳化硅

 

第四代半導體材料包括超寬禁帶半導體和超窄禁帶半導體,前者包括氧化鎵、金剛石和氮化鋁,后者包括銻化鎵和銻化銦等。其中,氧化鎵的禁帶寬度達到4.9eV,超越了SiC的3.2eV和GaN的3.39eV;此外其導通特性約為SiC的10倍,理論擊穿場強約為SiC的3倍,理論損耗僅為硅的1/3000、SiC的1/6、GaN的1/3;從成本角度,基于同樣6英寸襯底的最終器件成本,氧化鎵約為SiC的1/5,與硅基產(chǎn)品的成本相差無幾。

 

中國科學院院士郝躍在兩年前就曾預測,氧化鎵器件有望在未來10年內(nèi)成為有競爭力的電力電子器件,并直接與SiC器件競爭。氧化鎵領(lǐng)軍企業(yè)日本FLOSFIA公司則預計,到2025年氧化鎵功率器件市場規(guī)模將開始超過GaN,2030年將達到15.42億美元,占SiC的40%,是GaN的1.56倍。

 

盡管氧化鎵在成本和性能上具有顯著優(yōu)勢,但其大尺寸單晶制備面臨挑戰(zhàn),如高熔點、高溫分解以及易開裂等特性。目前,中國的氧化鎵產(chǎn)出僅限于實驗室與高校,而日本在氧化鎵量產(chǎn)方面走在前列。例如,日本東北大學成立的FOX公司,采用無貴金屬單晶生長技術(shù),目標是以比SiC更低的成本生產(chǎn)出低缺陷程度與硅相當?shù)?beta;-Ga2O3襯底(圖2)。

 

圖2:Si、4H-SiC、GaN和β-Ga2O3基本材料特性的雷達圖,所有參數(shù)均已規(guī)范化。(來源:MDPI)

 

氮化鋁作為另一種第四代半導體材料,以其大的擊穿電場和低損耗特性,被視為實現(xiàn)超低損耗功率器件和高溫電子器件的首選材料。NTT Corporation已于2024年初利用金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)成功生產(chǎn)出高質(zhì)量的氮化鋁,并開發(fā)了歐姆和肖特基接觸的形成方法,首次展示了氮化鋁晶體管的運行。

 

展望2025年,隨著技術(shù)的進步和量產(chǎn)難題的逐步攻克,氧化鎵和氮化鋁等第四代半導體材料不僅將挑戰(zhàn)現(xiàn)有的SiC和GaN市場,還有可能因其獨特的性能優(yōu)勢,在特定應用領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)超越。

 

3、從設計制造到應用,AI與半導體深度融合

 

AI正在引發(fā)新一輪科技革命。從語言模型、多模態(tài)模型的單體智能,到能夠使用思維鏈CoT(Chain of Thinking)進行推理的OpenAl o1,再到使用工具完成復雜任務的智能體(AIAgent),AI基礎能力正在快速演進,并迅速融入生產(chǎn)和生活的每個環(huán)節(jié),重塑千行百業(yè),引發(fā)新一輪科技和產(chǎn)業(yè)革命。

 

于是,在這一輪技術(shù)超級周期中,半導體行業(yè)也與AI形成了一種相互促進的關(guān)系。

 

例如,在芯片設計領(lǐng)域,AI通過機器學習、深度學習等智能算法,不斷提高設計的效率與準確性,幫助設計師在設計初期就能預測并優(yōu)化芯片的性能和功耗,減少設計迭代的次數(shù),縮短產(chǎn)品上市時間。

 

在智能制造領(lǐng)域,通過采用AI機器視覺的自動化檢測設備,不僅提升了生產(chǎn)線的速度,還顯著提高了制造精度。同時,通過收集和分析生產(chǎn)數(shù)據(jù),AI算法能夠預測設備故障,減少意外停機時間,并優(yōu)化制造參數(shù),減少原材料浪費和能耗。

 

在各種云端AI訓練和推理應用服務的推進下,2024年全球AI服務器出貨量預計將達到165萬臺,占比提高至12.1%。其整體資本支出預計將有50%左右的增長,并將在2025年繼續(xù)保持兩位數(shù)增幅。AI服務器不但需要高性能的GPU、CPU、TPU和存儲等硬件支持,一些頭部云服務提供商甚至還構(gòu)建了專門用于運行AI模型的定制芯片,這些都對半導體產(chǎn)業(yè)起到了拉升作用。

 

同時,我們也要重視智能手機、AI PC、車載終端和工業(yè)物聯(lián)網(wǎng)等端側(cè)AI技術(shù)創(chuàng)新,因為端側(cè)AI擁有龐大的市場規(guī)模、清晰的商業(yè)模式和豐富的應用場景,更容易實現(xiàn)AI規(guī)?;涞兀瑥亩铀僦聘咝阅躍oC、NPU、射頻、電源管理、模擬信號鏈組件的市場需求。

 

AI在給上游芯片設計企業(yè)帶來機遇的同時,也讓下游的封裝技術(shù)獲得了增量空間。畢竟生成式AI模型需要數(shù)百萬或數(shù)億級別參數(shù)才能進行推理,對芯片的處理速度、容量和帶寬都提出了更高的要求,這將推動以Chiplet為代表的先進封裝技術(shù)進一步發(fā)展,帶來封裝行業(yè)的生態(tài)變化。

 

4、光通信技術(shù)朝大容量、高速率和集成化方向發(fā)展

 

隨著全球數(shù)據(jù)流量的增長,特別是在視頻流、云計算、物聯(lián)網(wǎng)和5G網(wǎng)絡領(lǐng)域的發(fā)展,對高速光通信解決方案的需求日益增加。

 

過去一年中,光通信技術(shù)取得了顯著進展。首先,在傳輸速率方面,400Gbps甚至800Gbps接口已成為現(xiàn)實,標志著光收發(fā)器性能的新里程碑。華為和諾基亞等公司在相干光學技術(shù)和硅光子學方面的創(chuàng)新是這一成就的關(guān)鍵因素,這些新技術(shù)不僅提升了數(shù)據(jù)傳輸速度,還降低了功耗,增強了可靠性和可擴展性。密集波分復用(DWDM)技術(shù)的應用進一步擴大了單根光纖的數(shù)據(jù)承載能力,支持更多用戶同時在線,滿足了不斷增長的數(shù)據(jù)需求。

 

同步光網(wǎng)絡(SONET)技術(shù)在高帶寬需求場景中表現(xiàn)出色,尤其適合金融交易系統(tǒng)和醫(yī)療健康等領(lǐng)域,其高度可靠性使其成為關(guān)鍵應用的理想選擇(圖3)。數(shù)據(jù)中心內(nèi)部及之間的高效互連也成為了研究熱點,推動了新型光交換機和路由器的研發(fā),以實現(xiàn)更快速度和更低延遲的數(shù)據(jù)交換。

 

圖3:SONET/同步數(shù)字體系(SDH)與DWDM對比。(來源:QSFPTEK)

 

展望2025年,光通信技術(shù)將繼續(xù)朝著更高容量、更快傳輸速率、更低的成本以及更廣泛的部署方向發(fā)展:

 

更高容量與更快傳輸速率:行業(yè)將探索如何利用先進的調(diào)制格式和技術(shù)來達到Tbps級別的數(shù)據(jù)傳輸速率。

邊緣計算與光互連:針對分布式架構(gòu)優(yōu)化的光互連解決方案將成為研究重點,提供低延遲、高帶寬的連接能力,支撐實時處理要求高的應用。

集成化與模塊化設計:更加緊湊且節(jié)能高效的光通信模塊將是未來發(fā)展的關(guān)鍵方向之一,有助于降低運營成本并提高整體能效。

 

盡管前景光明,高昂的初始部署成本仍然是阻礙光通信技術(shù)廣泛采用的主要障礙之一。為此,產(chǎn)業(yè)界正通過爭取政府政策支持、技術(shù)創(chuàng)新降低成本以及加快標準化進程等方式尋求解決之道,以促進不同廠商產(chǎn)品間的兼容性,從而降低用戶的總體擁有成本。

 

5、HBM4量產(chǎn)時間提前,5納米成新工藝節(jié)點

 

盡管作為最新一代高帶寬內(nèi)存技術(shù),HBM4在各大存儲芯片巨頭技術(shù)路線圖里已有相關(guān)的量產(chǎn)時間表,但在AI終端需求的拉動下,或迫使存儲原廠撥快量產(chǎn)時間表。從量產(chǎn)進度來看,三星、SK海力士、美光科技三大存儲原廠的HBM4量產(chǎn)時間表都在2025至2026年。

 

HBM4最大的應用優(yōu)勢在于通過增加堆棧層數(shù)和通道數(shù),顯著提升了內(nèi)存的帶寬和容量。不過,HBM4內(nèi)存接口從1024位擴展到2048位,意味著HBM4內(nèi)存的設計和生產(chǎn)將面臨新的挑戰(zhàn),需要采用更先進的工藝節(jié)點和更具挑戰(zhàn)性的封裝技術(shù)。

 

從技術(shù)進展來看,5納米已經(jīng)成為HBM4的新工藝節(jié)點。同時,芯片封裝仍然是HBM4面臨的最大挑戰(zhàn)之一。由于無凸塊的混合鍵合技術(shù)尚不成熟,傳統(tǒng)有凸塊方案預計仍將是16層堆疊HBM4的主流鍵合技術(shù)。要保證堆棧高度維持在一定范圍內(nèi),HBM4需要進一步地壓縮層間間隙,而且還需提高熱管理能力。而在HBM鍵合工藝上,三大HBM內(nèi)存原廠正對無助焊劑鍵合等工藝進行相關(guān)的測試和研究,以推動HBM4的量產(chǎn)。

 

從量產(chǎn)進度和計劃來看,三星電子已經(jīng)成功制造了基于混合鍵合技術(shù)的16層堆疊HBM3內(nèi)存,并計劃將該技術(shù)用于HBM4內(nèi)存量產(chǎn)。同時,三星正在建立專門的HBM4生產(chǎn)線,目前進入試生產(chǎn)階段,預計在2025年下半年量產(chǎn)12層HBM4堆疊。SK海力士也在開發(fā)16層堆疊的HBM4內(nèi)存,并計劃于2025年量產(chǎn)(圖4)。該公司與臺積電合作,使用臺積電的5納米工藝來創(chuàng)建HBM4封裝底部的基底芯片。SK海力士還計劃引入混合鍵合技術(shù)以減少存儲芯片堆疊縫隙的高度,從而實現(xiàn)更多層數(shù)的堆疊。美光科技量產(chǎn)時間表略晚,預計將在2026年推出12和16層堆疊的HBM4產(chǎn)品。

 

圖4:HBM堆疊技術(shù)發(fā)展趨勢。(來源:SK海力士)

 

而對于SK海力士、三星和英偉達等企業(yè)的技術(shù)訴求,臺積電也將利用其N12FFC+和N5兩種工藝技術(shù),以及InFO和CoWoS等先進封裝解決方案。

 

6、艙駕一體中央計算架構(gòu)與大模型融合,助推自動駕駛技術(shù)發(fā)展

 

自通用人工智能(AGI)大火后,車用大模型也隨之大熱,特別是端到端車用大模型,有可能成為L2駕駛輔助或者L3自動駕駛的最佳路線(圖5)。特斯拉FSD V12版本的推出是這一趨勢的顯著標志,意味端到端自動駕駛技術(shù)在量產(chǎn)車型上的應用已成為現(xiàn)實。這個方案也得到了多家車企的認可,在中國,華為、小鵬、商湯科技和元戎啟行等企業(yè)也在積極跟進。

 

圖5:端到端自動駕駛架構(gòu)演進示意圖。(來源:辰韜資本《端到端自動駕駛行業(yè)研究報告》,信達證券研發(fā)中心)

 

隨著大模型的應用,自動駕駛芯片對算力的需求也在不斷提升,2024年被視為跨域融合的元年。多家公司已經(jīng)發(fā)布了支持中央計算平臺的SoC芯片,例如英偉達的DRIVE Thor和高通的Snapdragon Ride Flex SoC都具有高達2000TOPS的算力,能夠支持L4/L5級自動駕駛能力,同時兼顧更高端的智能座艙體驗。多家車企和一級供應商正在積極推進這一方向,艙駕一體將成為近兩年的主流趨勢。

 

智駕端到端大模型在未來能否上車是個關(guān)鍵,這個技術(shù)的發(fā)展可以分為四個階段:感知端到端、決策規(guī)劃模型化、模塊化端到端和One Model端到端。中國自動駕駛公司的模塊化端到端方案預計將在2025年實現(xiàn)量產(chǎn)上車。

 

從市場方面,有研究機構(gòu)表示,2029年汽車半導體市場規(guī)模將達到1000億美元,在這些數(shù)字背后,高級輔助駕駛系統(tǒng)(ADAS)和安全將以14%的年復合增長率在2023至2029年期間實現(xiàn)最高增長。用于自動駕駛的高性能SoC、智能座艙、電力電子,以及用于未來E/E架構(gòu)的MCU,也是OEM在汽車半導體投資中的重點方向。

 

7、2.5D與3D先進封裝持續(xù)深入,在嵌入式領(lǐng)域展現(xiàn)潛力

 

2.5D封裝技術(shù)通過在中介層集成多個芯片,實現(xiàn)了高效的芯片間通信;3D封裝技術(shù)則更進一步,將芯片垂直堆疊,不僅極大地減小了設備體積,還顯著提升了性能。這些技術(shù)的發(fā)展不僅滿足了各類應用高性能計算和強大處理能力的需求,也為小型化趨勢提供了強有力的支持。

 

在全球電子封裝行業(yè)中,2.5D與3D集成電路封裝正以迅猛的速度發(fā)展,成為推動整個市場向前邁進的關(guān)鍵力量。

 

根據(jù)The Business Research Company發(fā)布的3D IC和2.5D IC封裝市場研究報告,預計從2023年的486億美元起,到2024年這一市場規(guī)模將達到543.9億美元,展現(xiàn)出11.9%的年復合增長率。

 

在技術(shù)細分方面,3D和2.5D集成電路封裝技術(shù)涵蓋了3D晶圓級芯片級封裝、3D硅通孔(TSV)和2.5D等多種技術(shù)。

 

目前,這些技術(shù)已經(jīng)在高性能計算、5G通信基礎設施和自動駕駛汽車等前沿科技領(lǐng)域發(fā)揮重要作用,此外,2.5D和3D先進封裝技術(shù)也正逐步滲透到更多嵌入式應用中,如微機電系統(tǒng)(MEMS)、CMOS圖像傳感器(CIS)和閃存等,并且正在向圖形處理器(GPU)、多核CPU、電源管理單元(PMU)、功率放大器以及現(xiàn)場可編程門陣列(FPGA)等領(lǐng)域擴展其影響力,顯示出它們在未來電子封裝領(lǐng)域的巨大潛力(圖6)。

 

圖6:3D TSV應用廣泛且持續(xù)增長。(來源:Yole développement)

 

盡管在射頻(RF)微型系統(tǒng)方面,2.5D/3D封裝技術(shù)尚未形成規(guī)?;瘧?,但相關(guān)研究報道的數(shù)量正在不斷增加。

 

預測表明至2028年時,3D和2.5D集成電路封裝市場的規(guī)模有望達到816.7億美元,保持約10.7%的年均增長速度。隨著相關(guān)技術(shù)持續(xù)進步與市場需求的增長,可以預見,在接下來幾年里,2.5D和3D封裝技術(shù)將在商業(yè)上取得更加廣泛的應用。

 

8、AI需求激增推動服務器液冷技術(shù)發(fā)展

 

隨著中國人工智能企業(yè)對智算中心基礎設施建設和算力供給需求越來越高,導致此類數(shù)據(jù)中心的IT設備能耗大幅上升,迫切需要高效的冷卻系統(tǒng)來維持適宜的操作溫度,否則將對大模型產(chǎn)品的周期管理和運維難度產(chǎn)生巨大挑戰(zhàn)。另一方面,各國政府也在不斷提高數(shù)據(jù)中心的節(jié)能減排標準,加快綠色節(jié)能算力部署。因此,液冷解決方案正從以前數(shù)據(jù)中心建設和改造的“可選項”,逐步演變成為“必選項”。

 

以中國市場為例,中國液冷服務器市場在2024年上半年繼續(xù)快速增長。市場規(guī)模達12.6億美元,與2023年同期相比增長98.3%,其中液冷解決方案仍以冷板式為主,占到95%以上。預計2023至2028年,中國液冷服務器市場年復合增長率將達到47.6%,2028年市場規(guī)模將達到102億美元。

 

互聯(lián)網(wǎng)行業(yè)依然是2024上半年中國液冷服務器市場最大買家,占整體市場超60%的份額,其中云服務提供商(CSP)對于加速建設大集群的液冷數(shù)據(jù)中心是最積極的。除此以外,電信運營商在逐步落實2023年發(fā)布的《電信運營商液冷技術(shù)白皮書》3年行動計劃,積極探索基礎設施解耦方案,對液冷數(shù)據(jù)中心的建設保持較快的增長,也是未來液冷服務器需求的主要來源。

 

液冷技術(shù)主要分為直接液冷(DLC)和浸沒式液冷兩大類型(圖7)。直接液冷將冷卻液直接引導至設備的熱源上,通過冷卻板或冷卻管道將熱量帶走;浸沒式液冷則將整個設備完全浸泡在絕緣冷卻液中,實現(xiàn)更大范圍的熱傳導效果,適用于超高密度和大功率設備的散熱。目前來看,冷板式液冷憑借更高的技術(shù)成熟度和完善的產(chǎn)業(yè)鏈,具備更高的建設和維護便利性。

 

圖7:不同冷卻技術(shù)對比——電信運營商現(xiàn)階段主要推進冷板式液冷與單相浸沒式液冷兩種技術(shù)路線。

 

9、集成化、小型化和多通道設計,讓生物傳感器更強大

 

電化學生物傳感器是一種將生物識別元件(如酶、抗體或DNA)與電化學換能器相結(jié)合的分析裝置,能夠特異性地識別目標生物分子,并將其濃度變化轉(zhuǎn)化為可測量的電信號。它在生物醫(yī)學、環(huán)境監(jiān)測、食品安全等領(lǐng)域具有廣泛的應用前景。

 

近年來隨著人們健康意識的不斷提高,電化學生物傳感器技術(shù)有了顯著進展。全球市場規(guī)模在2023年估計達到了28.9億美元,預計到2030年將以8.0%的年復合增長率增長。

 

過去一年在技術(shù)進展方面,蘋果的無創(chuàng)血糖監(jiān)測技術(shù)雖然還處于可行的“概念驗證”階段,但為電化學生物傳感器的發(fā)展帶來了曙光;還有團隊開發(fā)出的便攜式生物傳感器,能夠在短時間內(nèi)檢測出血清中極低濃度的生物標志物。此外,微納制造技術(shù)的進步使得集成化和小型化成為可能,為可穿戴設備和即時檢測(POCT)應用提供了技術(shù)支持,而多通道設計的引入使得傳感器可以同時檢測多種目標物質(zhì),提高了檢測效率和準確性。

 

未來一年,更多的新型材料將有望被應用,如二維材料、金屬有機框架(MOF)和共軛聚合物等都有望成為新的研究熱點。時下大火的AI技術(shù)也有望與電化學生物傳感器深度融合,通過機器學習算法實現(xiàn)對復雜信號的智能分析和處理,提高檢測的準確性和可靠性。在可穿戴設備等具體應用領(lǐng)域,電化學生物傳感器與智能設備的融合,將實現(xiàn)對人體健康狀況的實時、長期和多項生理指標的同時監(jiān)測。

 

然而,電化學生物傳感器在商業(yè)化進程中也面臨一些挑戰(zhàn),例如穩(wěn)定性和重復性需要進一步提高,以確保測量結(jié)果的可靠。此外,成本和全球醫(yī)療保健機構(gòu)嚴格的法規(guī)也是限制其大規(guī)模應用的一個重要因素。這需要業(yè)界在優(yōu)化傳感器的設計和制備工藝,提高其性能和穩(wěn)定性的同時,探索新的材料和技術(shù)以降低制造成本。

 

10、應用導向的芯片設計,牽一發(fā)動全身

 

EDA企業(yè)過去一年都在談系統(tǒng)設計的重要性,或者說以應用為導向的芯片設計時代正在到來——不僅是板級系統(tǒng),也在于深入到應用特定需求的系統(tǒng)技術(shù)。

 

以汽車為例,當代汽車的不同設計域之間存在著更強的依賴和相互關(guān)聯(lián)性。某一部分的變化可能會影響到其他組成部分,可謂牽一發(fā)而動全身。對于系統(tǒng)設計、優(yōu)化、驗證、實施、制造和部署全流程,組件之間的關(guān)聯(lián)都變得無比重要。

 

對于特定的軟件來說,需要特定的芯片配置才能達成理想的運行效率;改變軟件,也就意味著芯片需要做出對應變更;隨之而來的就是芯片的熱等物理特性變化,封裝及系統(tǒng)也要做出改變;留給電池的空間或許就會不一樣,底盤設計也要跟著變,乃至影響到制動系統(tǒng)和引擎。

 

于是芯片設計與制造,不再單純是制造工藝驅(qū)動,也不只是受到先進封裝等制造封裝層面的變革影響,而是軟件定義、應用導向的系統(tǒng)設計中的一環(huán)。芯片設計需要放到整個系統(tǒng)之中進行,衡量系統(tǒng)所有其他組成部分,包括真實運營環(huán)境內(nèi)的資產(chǎn)。

 

芯片設計的數(shù)字孿生置于運營系統(tǒng)的數(shù)字孿生之中;基于對系統(tǒng)內(nèi)芯片的監(jiān)測,理解運營系統(tǒng)的性能,并將信息再反饋到設計環(huán)節(jié)。

 

這一趨勢的發(fā)生,不僅是摩爾定律停滯或放緩,以及全社會數(shù)字化轉(zhuǎn)型、AI技術(shù)發(fā)展對算力提出更高的要求而不得不為之;也是軟件、AI、IoT和通信等相關(guān)技術(shù)發(fā)展到一定高度才可達成的。

 

 

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來源:電子工程專輯

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