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對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的作用是什么？在多層光刻工藝中，由于每一層圖案的特征需要與前一層精確對(duì)齊，甚至幾納米的偏差都會(huì)對(duì)最終芯片的性能產(chǎn)生重大影響。對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記通過(guò)計(jì)算機(jī)視覺(jué)或掃描機(jī)制幫助光刻機(jī)識(shí)別和校準(zhǔn)硅片上的位置，從而實(shí)現(xiàn)納米級(jí)甚至亞納米級(jí)的圖案對(duì)齊。這些標(biāo)記通常制作在芯片的邊緣或非功能區(qū)（少部分在芯片中間的功能區(qū)），它們?yōu)楣饪虣C(jī)提供了一個(gè)可靠的基準(zhǔn)點(diǎn)，使多層圖案能夠完美疊加。

探索ASML光刻機(jī)中的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記

ASML是目前世界領(lǐng)先的光刻機(jī)制造商，其設(shè)備配備了最先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)技術(shù)，在發(fā)展過(guò)程中經(jīng)歷了不同代際的演進(jìn)。ASML光刻機(jī)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形貌（Alignment Marks）也隨著光刻技術(shù)的發(fā)展不斷改進(jìn)與優(yōu)化。本文將介紹幾種具有代表性的ASML光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形貌，包括TTL、ATHENA、SMASH和ORION系統(tǒng)中的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，并結(jié)合B站UP主Kurnal分享的芯片實(shí)物圖一探究竟。

注：其中ORION為推測(cè)（歡迎各位大佬指正）。

TTL對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記

TTL（Through The Lens，透鏡對(duì)準(zhǔn)）技術(shù)是ASML光刻機(jī)早期對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的一種形式。其原理是通過(guò)光刻機(jī)的光學(xué)系統(tǒng)對(duì)硅片表面的標(biāo)記進(jìn)行光學(xué)掃描，對(duì)比標(biāo)記的位置和形貌，從而精確識(shí)別和對(duì)齊硅片。TTL技術(shù)用于早期光刻機(jī)時(shí)代中，盡管已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了高精度對(duì)準(zhǔn)，但在現(xiàn)代高精尖芯片制造中，其對(duì)準(zhǔn)精度和適應(yīng)性已無(wú)法滿(mǎn)足需求。

來(lái)源于ASML資料

針對(duì)XPA標(biāo)記尺寸過(guò)大的問(wèn)題，ASML將XPA標(biāo)記中的X部分和Y部分拆開(kāi)來(lái)，形成標(biāo)準(zhǔn)型SPM-X和SPM-Y標(biāo)記應(yīng)用于ATHENA，長(zhǎng)條形的設(shè)計(jì)使其便于放置在劃片槽區(qū)域。

SMASH應(yīng)用于ASML中高端光刻機(jī)，是由一系列旋轉(zhuǎn)了45°的等間距線(xiàn)條構(gòu)成。該標(biāo)記的最大優(yōu)點(diǎn)是，一次掃描就可以同時(shí)確定X和Y方向的位置，因此SMASH對(duì)準(zhǔn)效率大大提高。