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電鍍層加工常見(jiàn)的十八個(gè)質(zhì)量問(wèn)題

嘉峪檢測(cè)網(wǎng)        2015-06-15 23:22

 

1、針孔。針孔是因?yàn)?a href="http://www.bowken.cn/search/q-鍍層.html">鍍件外表吸附著氫氣,遲遲不釋放。使鍍液無(wú)法親潤(rùn)鍍件外表,然后無(wú)法電析鍍層。跟著析氫點(diǎn)四周區(qū)域鍍層厚度的添加,析氫點(diǎn)就構(gòu)成了一個(gè)針孔。特點(diǎn)是一個(gè)發(fā)亮的圓孔,有時(shí)還有一個(gè)向上的小尾巴“”。當(dāng)鍍液中短少潮濕劑并且電流密度偏高時(shí),輕易構(gòu)成針孔。
   

2、麻點(diǎn)。麻點(diǎn)是因?yàn)槭苠兺獗聿粷崈?,有固體物質(zhì)吸附,或許鍍液中固體物質(zhì)懸浮著,當(dāng)在電場(chǎng)效果下抵達(dá)工件外表后,吸附其上,而影響了電析,把這些固體物質(zhì)嵌入在電鍍層中,構(gòu)成一個(gè)個(gè)小凸點(diǎn)。特點(diǎn)是上凸,沒(méi)有發(fā)亮景象,沒(méi)有固定外形??傊枪ぜK、鍍液臟而形成。
   

3、氣流條紋。氣流條紋是因?yàn)樘砑觿┻^(guò)量或陰極電流密渡過(guò)高或絡(luò)合劑過(guò)高而降低了陰極電流效率然后析氫量大。假如那時(shí)鍍液活動(dòng)遲緩,陰極挪動(dòng)遲緩,氫氣貼著工件外表上升的進(jìn)程中影響了電析結(jié)晶的陳列,構(gòu)成自下而上一條條氣流條紋。
   

4、掩鍍。掩鍍是因?yàn)槭枪ぜ獗砉苣_部位的軟性溢料沒(méi)有除去,無(wú)法在此處進(jìn)行電析堆積鍍層。電鍍后可見(jiàn)基材,故稱露底。
   

5、鍍層脆性。在SMD電鍍后切筋成形后,可見(jiàn)在管腳彎處有開(kāi)裂景象。當(dāng)鎳層與基體之間開(kāi)裂,斷定是鎳層脆性。當(dāng)錫層與鎳層之間開(kāi)裂,斷定是錫層脆性。形成脆性的緣由多半是添加劑,亮光劑過(guò)量,或許是鍍液中無(wú)機(jī)、有機(jī)雜質(zhì)太多形成。
   

6、氣袋。氣袋的形成是由于工件的形狀和積氣條件而形成。氫氣積在“袋中”無(wú)法排到鍍液液面。氫氣的存在阻止了電析鍍層。使積累氫氣的部位無(wú)鍍層。在電鍍時(shí),只要注意工件的鉤掛方向可以避免氣袋現(xiàn)象。如圖示工件電鍍時(shí),當(dāng)垂直于鍍槽底鉤掛時(shí),不產(chǎn)生氣袋。當(dāng)平行于槽底鉤掛時(shí),易產(chǎn)生氣袋。
   

7、塑封黑體中央開(kāi)“錫花”。在黑體上有錫鍍層,這是由于電子管在焊線時(shí),金絲的向上拋物形太高,塑封時(shí)金絲外露在黑體表面,錫就鍍?cè)诮鸾z上,像開(kāi)了一朵花。不是鍍液?jiǎn)栴}。
   

8、“爬錫”。在引線與黑體的結(jié)合部有錫層,像爬墻草一樣向黑體上爬,錫層是樹(shù)枝狀的疏松鍍層。這是由于鍍前處理中,用銅刷刷洗SMD框架,而磨損下來(lái)的銅粉嵌入黑體不容易洗掉,成為導(dǎo)電“橋”,電鍍時(shí)只要電析金屬搭上“橋”,就延伸,樹(shù)枝狀沉積爬開(kāi)來(lái)與其他的銅粉連接,爬錫面積越來(lái)越大。
   

9、“須子錫”在引線和黑體的結(jié)合部,引線兩側(cè)有須子狀錫,在引線正面與黑體結(jié)合部有錫焦?fàn)疃彦a。這是由于SMD框架在用掩鍍法鍍銀時(shí),掩鍍裝置不嚴(yán)密,在不需要鍍銀的地方也鍍上了銀。而在塑封時(shí),有部分銀層露在黑體外面。而在鍍前處理時(shí)銀層撬起,鍍?cè)阢y上的錫就像須子一樣或成堆錫。克服銀層外露是掩鍍銀技術(shù)的關(guān)鍵之一。
   

10、橘皮狀鍍層。當(dāng)基材很粗糙時(shí),或者前處理過(guò)程中有過(guò)腐蝕現(xiàn)象或者在Ni42Fe+Cu基材在鍍前處理時(shí),有的銅層已除去,而有的區(qū)域銅層還沒(méi)有退除,整個(gè)表面發(fā)花不平滑。以上情況都可能造成鍍層橘皮狀態(tài)。
   

11、凹穴鍍層。鍍層表面有疏密不規(guī)則的凹穴呈“天花臉”鍍層。有二種情況可能形成“天花臉”鍍層。
    (1)、有的單位用玻璃珠噴射法除去溢料。當(dāng)噴射的氣壓太高時(shí),玻璃珠的動(dòng)能慣性把受鍍表面沖擊成一個(gè)個(gè)的小坑。當(dāng)鍍層偏薄時(shí),沒(méi)有填平凹坑,就成了“天花臉”鍍層。
    (2)、基體材料合金金相不均勻,在鍍前處理過(guò)程中有選擇性腐蝕現(xiàn)象。電鍍后沒(méi)有填平凹穴,就成“天花臉”鍍層。
   

12、疏松樹(shù)枝狀鍍層。在鍍液臟,主金屬離子濃度高,絡(luò)合劑低,添加劑低,陰陽(yáng)極離的太近,電流密度過(guò)大,在電流區(qū)易形成疏松樹(shù)枝狀鍍層。疏松鍍層像泡沫塑料,樹(shù)枝狀參差不齊,可用手指抹落鍍層。
   

13、雙層鍍層。雙層鍍層的形成多半發(fā)生在鍍液的作業(yè)溫度比較高,在電鍍過(guò)程中把工件提出鍍槽而又從新掛入續(xù)鍍。這過(guò)程中,如果工件提出時(shí)間較長(zhǎng),工件表面的鍍液由于水分蒸發(fā)而析出鹽霜附在工件上,在續(xù)鍍時(shí)鹽霜沒(méi)有來(lái)得及溶解,鍍層就鍍?cè)邴}霜表面,形成雙層鍍層,好像華富餅干,兩層鍍層中夾入著一層鹽霜。
    避免雙層鍍層,可以在續(xù)鍍前先把工件在鍍液中晃動(dòng)幾秒鐘,讓鹽霜溶解后再通電續(xù)鍍。
   

14、鍍層發(fā)黑。鍍層發(fā)黑的主要原因是鍍液金屬雜質(zhì)和有機(jī)雜質(zhì)高,特別在低電流密度區(qū)鍍層更黑;在添加劑不足的情況下,在大受鍍面積的中部也會(huì)出現(xiàn)黑色鍍層;溫度太低離子活動(dòng)小,在電流偏高時(shí)也會(huì)形成灰黑色的鍍層。處理金屬雜質(zhì),可用瓦楞板作陰極,01-0.2A/dm2電解。處理有機(jī)污染,可用3-5克/升,活性炭處理。用顆粒狀的,先用純水洗過(guò)。
   

15、鈍態(tài)脫皮。Ni42Fe合金是容易鈍態(tài)的。鍍前活化包括兩個(gè)化學(xué)過(guò)程,一個(gè)是氧化過(guò)程,一個(gè)是氧化物的溶解過(guò)程。若氧化過(guò)程不充分或氧化物來(lái)不及溶解掉,受鍍表面仍有氧化物殘?jiān)儗泳蜁?huì)脫皮或粗糙。
   

16、置換脫皮。若同一工件上有二種不同的材質(zhì)組成。例如,銅基材表面是鍍鎳的,而切剪成形后切口上是露出銅質(zhì)的。則當(dāng)強(qiáng)蝕槽中銅離子增加到一個(gè)極限值時(shí),鎳層上容易產(chǎn)生置換銅層。有了置換銅,鍍錫后就會(huì)造成錫層脫皮。這種情況下只能勤更新強(qiáng)蝕藥水來(lái)避免置換脫皮。
   

17、油污染脫皮。若鍍前處理中油未除干凈,則電鍍加工時(shí)有油污染的區(qū)域就沒(méi)有鍍層,即使有鍍層覆蓋也是假鍍,鍍層與基材沒(méi)有結(jié)合力,像風(fēng)疹塊一樣一塊塊隆起,一擦就脫落。   
   

18、有的工件外表有黑色斑跡。

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來(lái)源:AnyTesting

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