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嘉峪檢測(cè)網(wǎng) 2025-09-14 14:57
在先進(jìn)封裝中,Hybrid bonding(混合鍵合)不僅可以增加I/O密度,提高信號(hào)完整性,還可以實(shí)現(xiàn)低功耗、高帶寬的異構(gòu)集成。它是主要3D封裝平臺(tái)(如臺(tái)積電的SoIC、三星的X-Cube和英特爾的fooveros)背后的基礎(chǔ)技術(shù)。展望未來,隨著邏輯和內(nèi)存堆疊變得更加緊密耦合,帶寬需求不斷增加,鍵合技術(shù)只會(huì)變得越來越重要,成為芯片和系統(tǒng)層面創(chuàng)新的關(guān)鍵推動(dòng)者。

技術(shù)原理與架構(gòu)特點(diǎn)
Hybrid bonding 是一種以無凸點(diǎn)互連結(jié)構(gòu)為特征的半導(dǎo)體堆疊技術(shù)。與傳統(tǒng)的基于焊料的封裝不同,混合鍵合通過直接的銅對(duì)銅(Cu-Cu)接觸實(shí)現(xiàn)電氣和機(jī)械互連。上下芯片緊密鍵合,其間僅有被介質(zhì)材料封裝的超細(xì)圖案化銅焊盤。這些銅焊盤的間距通常低于10微米,并通過硅通孔(TSVs)連接到芯片內(nèi)部的金屬層,形成完整的信號(hào)和電源路徑。

“混合”一詞指的是介電對(duì)介電的分子鍵合和金屬對(duì)金屬的銅鍵合的結(jié)合,兩者均無需粘合劑。這使得界面更加穩(wěn)定,損耗更低,具有卓越的電氣和熱性能。
技術(shù)優(yōu)勢(shì)與系統(tǒng)級(jí)益處
Hybrid bonding 提供了眾多的技術(shù)和系統(tǒng)級(jí)優(yōu)勢(shì),從根本上重塑了芯片設(shè)計(jì)和系統(tǒng)架構(gòu):
超高互連密度:能夠在低于10微米甚至達(dá)到數(shù)百納米的范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)垂直互連,遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過傳統(tǒng)凸點(diǎn)方法的密度。
低電阻和低功耗:消除焊料凸點(diǎn)顯著降低了互連電阻,提高了能效和熱性能——這對(duì)于高速數(shù)據(jù)路徑至關(guān)重要。
低延遲和短互連:極大地縮短了信號(hào)路徑,使其接近芯片內(nèi)部的距離,提高了性能,特別是在人工智能、近內(nèi)存計(jì)算和3D緩存架構(gòu)中。
架構(gòu)創(chuàng)新:高密度互連使設(shè)計(jì)人員能夠?qū)π酒δ苓M(jìn)行模塊化和異構(gòu)集成,克服了單芯片面積和產(chǎn)量的限制。
制造挑戰(zhàn)與關(guān)鍵工藝控制
盡管 Hybrid bonding 具有變革性潛力,但它帶來了嚴(yán)格的工藝要求。關(guān)鍵因素包括:
表面平整度:鍵合界面極其敏感于微尺度粗糙度。介電表面要求粗糙度小于0.5納米,銅焊盤小于1納米。這需要化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)作為關(guān)鍵步驟。
清潔度和顆??刂疲杭词故?微米的顆粒也可能導(dǎo)致毫米級(jí)區(qū)域的鍵合失敗?;旌湘I合需要ISO 3級(jí)或更好的潔凈室環(huán)境,使其在清潔度需求上更接近前端晶圓廠。
對(duì)準(zhǔn)精度:晶圓對(duì)晶圓(W2W)鍵合系統(tǒng)必須實(shí)現(xiàn)低于50納米的對(duì)準(zhǔn)精度,集成高分辨率光學(xué)元件和精確的機(jī)械定位。鍵合壓力和停留時(shí)間也必須嚴(yán)格控制,以實(shí)現(xiàn)初始的范德華鍵合(van der Waals bonding)和隨后的銅對(duì)銅鍵合(Cu-Cu bonding)。
工藝概述
Hybrid bonding 以晶圓對(duì)晶圓(W2W)或芯片對(duì)晶圓(D2W)的形式實(shí)現(xiàn),遵循以下一般步驟:
TSV形成:通過硅通孔在基底晶圓中建立信號(hào)和電源路徑。
鍵合層制造:在晶圓頂部沉積介電層(例如二氧化硅或碳氮化硅)并圖案化銅焊盤。
CMP拋光:對(duì)兩個(gè)鍵合表面進(jìn)行拋光,以滿足納米級(jí)平整度要求。
表面激活和清潔:用等離子體(例如氮?dú)猓┨幚硪约せ畋砻?,隨后用去離子水沖洗。
對(duì)準(zhǔn)和預(yù)鍵合:使用先進(jìn)的定位系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)晶圓,并施加低壓力鍵合以啟動(dòng)介電粘附。
熱退火:應(yīng)用受控的熱處理以形成銅對(duì)銅金屬鍵,最終完成混合界面。
W2W與D2W工藝選擇


W2W:適用于高產(chǎn)量、小面積芯片;具有對(duì)準(zhǔn)和吞吐量優(yōu)勢(shì)。常見于圖像傳感器和3D NAND。
D2W:適用于大型或復(fù)雜芯片,使用經(jīng)過晶圓分類后的已知良好芯片(KGD)。技術(shù)上具有挑戰(zhàn)性,但能夠?qū)崿F(xiàn)模塊化和異構(gòu)集成。AMD的3D V-Cache(SoIC)是使用D2W混合鍵合的突出例子。
Wafer to wafer:指的是將兩個(gè)完整的晶圓(wafer)直接進(jìn)行鍵合或連接。
Die to wafer:則是指將單個(gè)芯片(die)與另一個(gè)完整的晶圓進(jìn)行鍵合或連接。

來源:十二芯座