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  • 下一代EUV光刻機(jī)取得重大進(jìn)展

    由imec和ASML組成的imec-ASML 聯(lián)合High NA實驗室在開發(fā)圖案化和蝕刻工藝、篩選新的光刻膠和底層材料、改進(jìn)計量和光掩模技術(shù)方面取得了進(jìn)展。

    2022/05/12 更新 分類：科研開發(fā) 分享