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  • 芯片制造中的離子注入Ion implant

    芯片制造中的離子注入Ion implant 。

    2025/07/08 更新 分類：科研開(kāi)發(fā) 分享

  • 離子注入后退火對(duì)晶體結(jié)構(gòu)影響

    本文介紹了離子注入后退火對(duì)晶體結(jié)構(gòu)影響。

    2025/05/08 更新 分類：科研開(kāi)發(fā) 分享

  • 芯片制造為什么離子注入需要一定的角度

    在進(jìn)行離子注入工藝時(shí)，入射方向需要傾斜一個(gè)角度，一般偏離晶面法線7°到10°之間，這是為什么呢？

    2025/04/18 更新 分類：科研開(kāi)發(fā) 分享

  • 半導(dǎo)體前端工藝FEOL：工藝概覽與氧化

    在半導(dǎo)體制作過(guò)程中，通過(guò)氧化工藝形成的氧化膜也同樣具有穩(wěn)定性。它可以防止其他物質(zhì)的穿透，因此在離子注入工藝中非常實(shí)用。

    2025/04/03 更新 分類：科研開(kāi)發(fā) 分享

  • 可生物降解鎂及鎂合金表面改性研究進(jìn)展

    簡(jiǎn)要介紹了陽(yáng)極氧化、微弧氧化、離子注入、溶膠-凝膠、等離子噴涂及化學(xué)沉積等表面改性方法的原理，并比較其優(yōu)缺點(diǎn)；提出了可生物降解鎂及鎂合金表面改性涂層研究中面臨的問(wèn)題，并展望了未來(lái)發(fā)展方向。

    2021/04/08 更新 分類：科研開(kāi)發(fā) 分享

  • 在鎂植入物上構(gòu)建具有腐蝕保護(hù)和骨整合特性的鉭/聚乙烯亞胺涂層

    聚乙烯亞胺(PEI)作為鎂(Mg)的涂層，表現(xiàn)出令人滿意的防腐能力和良好的粘附強(qiáng)度，我們改變了PEI涂層鎂植入物的物理和化學(xué)性質(zhì)。等離子體浸沒(méi)離子注入技術(shù)與直流(DC)磁控濺射相結(jié)合，將生物相容的鉭(Ta)引入到PEI涂層的表面。使其為前成骨細(xì)胞的粘附、增殖和分化產(chǎn)生了長(zhǎng)期的表面親水性并顯示出顯著增強(qiáng)的骨組織親和力和骨整合能力。

    2021/01/28 更新 分類：科研開(kāi)發(fā) 分享

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