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要實現(xiàn)更精細(xì)的電路，第一步就是“繪制”。

2025/04/08 更新 分類：科研開發(fā) 分享

本文主要介紹了化學(xué)蝕刻工藝的一些主要優(yōu)點，以及如何將其應(yīng)用于醫(yī)療行業(yè)。

2021/12/21 更新 分類：科研開發(fā) 分享

在導(dǎo)管加工中，表面蝕刻是影響產(chǎn)品性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。它能改變導(dǎo)管表面微觀結(jié)構(gòu)，提升粘結(jié)力、涂層附著力，甚至助力藥物洗脫功能實現(xiàn)。今天，我們就結(jié)合實操，拆解等離子、化學(xué)、機械三類蝕刻工藝，為導(dǎo)管工程師提供技術(shù)參考。

2025/08/22 更新 分類：生產(chǎn)品管 分享

這一篇將會介紹幾種薄膜制備方法，在半導(dǎo)體加工工藝中，被提及最多就是光刻和刻蝕，其次就是外延（薄膜）工藝了。

2025/06/05 更新 分類：科研開發(fā) 分享

一般來說，我們所知道的半導(dǎo)體制造的八大工藝分別為：晶圓加工、氧化、光刻、刻蝕、沉積、金屬互連、測試和封裝。

2025/04/07 更新 分類：科研開發(fā) 分享

在日前英特爾推出了A14工藝之后，兩大晶圓廠巨頭正式入局這個巔峰之爭。從目前的資料看來，總體而言，他們在架構(gòu)、EUV光刻和晶體管設(shè)計上展開了激烈競爭。

2025/05/05 更新 分類：科研開發(fā) 分享

在半導(dǎo)體制造中，晶圓（Wafer）邊緣（Edge）的 Die 與中心（Center）的 Die 在性能、良率和可靠性上存在顯著差異。這些差異主要源于制造過程中的物理效應(yīng)、工藝均勻性、熱應(yīng)力和光刻/刻蝕非均勻性等因素。

2025/09/06 更新 分類：科研開發(fā) 分享

本文介紹了光刻機結(jié)構(gòu)及雙工件臺技術(shù)。

2024/10/29 更新 分類：科研開發(fā) 分享

本文介紹了光刻機成像系統(tǒng)及光學(xué)鍍膜技術(shù)。

2024/11/10 更新 分類：科研開發(fā) 分享

光刻機原理及其路線圖解析。

2025/12/13 更新 分類：科研開發(fā) 分享