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本文主要介紹了光刻膠材料于技術(shù)研究進(jìn)展和光刻膠主要生產(chǎn)國(guó)家和地區(qū)概況

2021/07/09 更新 分類：行業(yè)研究 分享

本文回顧了不同光刻膠體系的基本組分、作用原理與技術(shù)特點(diǎn)，在此基礎(chǔ)上分析了下一代光刻技術(shù)，特別是大分子自組裝和極紫外光刻的技術(shù)特點(diǎn)及其對(duì)相關(guān)材料的挑戰(zhàn)。

2020/07/06 更新 分類：科研開發(fā) 分享

3月25日消息，據(jù)悉，中國(guó)科學(xué)院成功研發(fā)除了突破性的固態(tài)DUV(深紫外)激光，可發(fā)射193nm的相干光，與目前主流的DUV曝光波長(zhǎng)一致，能將半導(dǎo)體工藝推進(jìn)至3nm。

2025/03/25 更新 分類：科研開發(fā) 分享

本文介紹了芯片光刻過程中Overlay技術(shù)。

2025/05/26 更新 分類：科研開發(fā) 分享

光刻膠又稱光致抗蝕劑，是一種對(duì)光敏感的混合液體。其組成部分包括：光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑）、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他助劑。

2020/10/28 更新 分類：科研開發(fā) 分享

當(dāng)然，在當(dāng)前國(guó)際政治地緣下，中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)也面臨著原材料供應(yīng)鏈的不穩(wěn)定性和價(jià)格上漲的風(fēng)險(xiǎn)。未來，中國(guó)光刻膠國(guó)產(chǎn)化之路，既面臨較高的技術(shù)門檻，又有國(guó)產(chǎn)化帶來的機(jī)遇。

2023/12/12 更新 分類：行業(yè)研究 分享

北大等團(tuán)隊(duì)首用冷凍電鏡斷層掃描，解析光刻膠顯影微觀行為并提出優(yōu)化方案。

2025/10/27 更新 分類：科研開發(fā) 分享

光刻?國(guó)產(chǎn)化不僅具有重要的戰(zhàn)略意義，還蘊(yùn)含著巨?的經(jīng)濟(jì)價(jià)值，是保障我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈安全的關(guān)鍵?環(huán)。

2025/12/10 更新 分類：科研開發(fā) 分享

本文闡述光刻膠在芯片制造中的核心地位、市場(chǎng)格局、技術(shù)壁壘，及中國(guó)企業(yè)的國(guó)產(chǎn)化突圍路徑與政策支持。

2026/01/20 更新 分類：科研開發(fā) 分享

近日，清華大學(xué)化學(xué)系許華平教授團(tuán)隊(duì)在極紫外（EUV）光刻材料上取得重要進(jìn)展，開發(fā)出一種基于聚碲氧烷（Polytelluoxane,PTeO）的新型光刻膠，為先進(jìn)半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵材料提供了新的設(shè)計(jì)策略。

2025/07/25 更新 分類：科研開發(fā) 分享