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對半導(dǎo)體晶圓在濕法清洗工藝中可能導(dǎo)致的各種缺陷成因進行分析，并對缺陷的處理方式做了簡要探討。

2024/10/17 更新 分類：科研開發(fā) 分享

本文探討了宇航、車載和工業(yè)控制等行業(yè)數(shù)據(jù)處理需求增長，推動半導(dǎo)體技術(shù)向更高集成度發(fā)展。

2024/10/18 更新 分類：科研開發(fā) 分享

半導(dǎo)體器件和普通電子設(shè)備一樣，其故障區(qū)域可分為早期故障、偶然故障和耗損故障這三種類型，故障率隨時間的變化曲線被稱為浴盆曲線。

2024/12/18 更新 分類：科研開發(fā) 分享

近日，美國半導(dǎo)體初創(chuàng)公司 Zero ASIC 宣布推出世界上第一款開放標準 eFPGA IP 產(chǎn)品Platypus。

2025/03/25 更新 分類：科研開發(fā) 分享

本文介紹了二次離子質(zhì)譜法的工作原理、特點與優(yōu)勢與應(yīng)用。

2025/03/27 更新 分類：科研開發(fā) 分享

今天，我想和大家分享一下 3D IC 設(shè)計與封裝技術(shù)的最新進展、行業(yè)應(yīng)用，以及未來的發(fā)展趨勢。

2025/05/12 更新 分類：行業(yè)研究 分享

本文將從定義、結(jié)構(gòu)、作用及缺失風險四個維度，全面解析這一芯片 "守護者" 的技術(shù)內(nèi)涵。

2025/05/12 更新 分類：科研開發(fā) 分享

在這里介紹一種主動型 EMI抑制技術(shù)---展頻技術(shù)，它應(yīng)用半導(dǎo)體芯片技術(shù)進行處理，被稱為當今最先進有效的主動型 EMI 抑制方法之一。

2025/05/14 更新 分類：科研開發(fā) 分享

這一篇將會介紹幾種薄膜制備方法，在半導(dǎo)體加工工藝中，被提及最多就是光刻和刻蝕，其次就是外延（薄膜）工藝了。

2025/06/05 更新 分類：科研開發(fā) 分享

闡述化學試劑對機械件的腐蝕評估方法、壽命預(yù)測模型，結(jié)合半導(dǎo)體設(shè)備案例，強調(diào)科學評估的重要性。

2025/10/30 更新 分類：科研開發(fā) 分享