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您當(dāng)前的位置：檢測預(yù)警 > 欄目首頁

  • 三星電子4nm HBM4芯片初期良率達(dá)40%

    4月18日消息，三星電子在4nm制程的HBM4內(nèi)存邏輯芯片初步測試生產(chǎn)中取得了40%的良率，這一成績遠(yuǎn)超行業(yè)通常的10%起點(diǎn)水平，并且優(yōu)于此前同制程產(chǎn)品的不足20%的表現(xiàn)。

    2025/04/21 更新 分類：科研開發(fā) 分享

  • 雙頭螺栓斷裂失效分析

    客戶懸掛連接螺栓，在裝配過程中用定值扭力扳手（70Nm）打扭力時，未達(dá)額定值即發(fā)生早期斷裂。根據(jù)客戶要求，對送檢斷裂螺栓進(jìn)行失效分析測試，以期找出螺栓斷裂原因。

    2024/03/08 更新 分類：檢測案例 分享

  • 國產(chǎn)非接觸眼底廣角觀察系統(tǒng)上市

    美沃這款全新非接觸式眼底廣角觀察系統(tǒng)，包含 600B 非接觸式眼底廣角觀察鏡和 532nm 激光濾光片的 600A 倒像鏡。

    2024/09/15 更新 分類：科研開發(fā) 分享

  • 如果液相色譜譜圖基線漂移很大是不是柱子的問題？

    色譜新手：如果液相色譜譜圖基線漂移很大是不是柱子的問題？波長越小的越大，270nm的還不怎么能看出來，230nm的就非常厲害了，有可能是什么原因造成的？

    2024/12/20 更新 分類：實(shí)驗(yàn)管理 分享

  • 重慶大學(xué)三維透射電鏡技術(shù)在納米金屬研究領(lǐng)域取得新突破

    黃曉旭團(tuán)隊(duì)經(jīng)過十多年的不懈努力，在國家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃等項(xiàng)目的支持下，成功開發(fā)了一系列基于電子衍射的三維透射電鏡技術(shù)，空間分辨率1nm。

    2023/12/04 更新 分類：科研開發(fā) 分享

  • 莫廷醫(yī)療推出首款OCT眼科光學(xué)生物測量儀

    近日，深圳莫廷醫(yī)療科技股份有限公司展出其基于1050nm OCT 技術(shù)的眼科光學(xué)生物測量儀——哥倫布（Colombo IOL），更是憑借其獨(dú)特的優(yōu)勢，在亞太眼科新技術(shù)潮流中嶄露頭角。

    2024/03/04 更新 分類：科研開發(fā) 分享

  • 0.7nm芯片要來了，Imec和Intel分享路線圖

    今天，英特爾代工技術(shù)研究團(tuán)隊(duì)宣布了利用超硅材料（ beyond-silicon materials）、芯片互連和封裝技術(shù)等技術(shù)在二維晶體管技術(shù)方面取得的技術(shù)突破。

    2024/12/08 更新 分類：監(jiān)管召回 分享

  • 披露1.4nm細(xì)節(jié)，英特爾更新晶圓代工路線圖

    今天，英特爾舉辦了晶圓代工大會，會上公司指出，正在與主要客戶洽談即將推出的14A工藝節(jié)點(diǎn)（相當(dāng)于1.4納米），該節(jié)點(diǎn)是18A工藝節(jié)點(diǎn)的后續(xù)產(chǎn)品。

    2025/04/30 更新 分類：科研開發(fā) 分享

  • 晶圓對晶圓混合鍵合技術(shù)

    晶圓對晶圓混合鍵合這一 3D 集成關(guān)鍵技術(shù)，闡述其原理、應(yīng)用現(xiàn)狀、工藝流程與挑戰(zhàn)，還提及 imec 的技術(shù)改進(jìn)及 400nm 間距突破，展望未來趨勢。

    2025/09/12 更新 分類：科研開發(fā) 分享

  • 飛行時間二次離子質(zhì)譜(TOF-SIMS)在表面異物分析中的應(yīng)用

    通過TOF-SIMS對某連接器表面出現(xiàn)白點(diǎn)的位置進(jìn)行分析，定性的分析了OK位置和NG位置上表面10nm以內(nèi)成分，為連接器產(chǎn)生白點(diǎn)的原因作出合理的推斷。

    2018/05/23 更新 分類：科研開發(fā) 分享