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本文介紹了光刻機(jī)結(jié)構(gòu)及雙工件臺(tái)技術(shù)。

2024/10/29 更新 分類：科研開發(fā) 分享

本文介紹了光刻機(jī)成像系統(tǒng)及光學(xué)鍍膜技術(shù)。

2024/11/10 更新 分類：科研開發(fā) 分享

光刻機(jī)原理及其路線圖解析。

2025/12/13 更新 分類：科研開發(fā) 分享

本文主要介紹了光刻膠材料于技術(shù)研究進(jìn)展和光刻膠主要生產(chǎn)國(guó)家和地區(qū)概況

2021/07/09 更新 分類：行業(yè)研究 分享

本文回顧了不同光刻膠體系的基本組分、作用原理與技術(shù)特點(diǎn)，在此基礎(chǔ)上分析了下一代光刻技術(shù)，特別是大分子自組裝和極紫外光刻的技術(shù)特點(diǎn)及其對(duì)相關(guān)材料的挑戰(zhàn)。

2020/07/06 更新 分類：科研開發(fā) 分享

本文介紹了芯片光刻過程中Overlay技術(shù)。

2025/05/26 更新 分類：科研開發(fā) 分享

光刻膠又稱光致抗蝕劑，是一種對(duì)光敏感的混合液體。其組成部分包括：光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑）、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他助劑。

2020/10/28 更新 分類：科研開發(fā) 分享

當(dāng)然，在當(dāng)前國(guó)際政治地緣下，中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)也面臨著原材料供應(yīng)鏈的不穩(wěn)定性和價(jià)格上漲的風(fēng)險(xiǎn)。未來，中國(guó)光刻膠國(guó)產(chǎn)化之路，既面臨較高的技術(shù)門檻，又有國(guó)產(chǎn)化帶來的機(jī)遇。

2023/12/12 更新 分類：行業(yè)研究 分享

本文首先介紹光刻和電子束曝光的基本工藝流程，之后對(duì)工藝過程中缺陷來源進(jìn)行分析。

2022/07/27 更新 分類：科研開發(fā) 分享

“對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記”（Alignment Marks）成為光刻工藝中不可或缺的工具。它們是芯片上專門設(shè)計(jì)的標(biāo)記，用于確保在多層工藝中完成精準(zhǔn)對(duì)齊。

2025/05/16 更新 分類：科研開發(fā) 分享