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本文將對(duì)各國(guó)元素雜質(zhì)的控制現(xiàn)狀、檢測(cè)方法、控制策略等進(jìn)行簡(jiǎn)要介紹,以期為我國(guó)原料藥生產(chǎn)企業(yè)提高產(chǎn)品質(zhì)量提供參考。
2018/03/28 更新 分類:法規(guī)標(biāo)準(zhǔn) 分享
本文討論了藥物開(kāi)發(fā)過(guò)程中雜質(zhì)研究的階段性目標(biāo)、監(jiān)管機(jī)構(gòu)對(duì)于各階段研究?jī)?nèi)容的期望以及各藥企的常規(guī)做法。化學(xué)合成原料藥的雜質(zhì)研究主要包括工藝雜質(zhì),如中間體、副產(chǎn)物、遺傳毒性雜質(zhì)、殘留溶劑和元素雜質(zhì)。強(qiáng)制降解試驗(yàn)常用于研究原料藥和制劑的降解雜質(zhì)。本文討論了藥物開(kāi)發(fā)不同階段開(kāi)展強(qiáng)制降解研究的目的和程度。
2022/03/11 更新 分類:科研開(kāi)發(fā) 分享
藥物中的雜質(zhì)分析是一個(gè)非常重要的部分,本文就雜質(zhì)來(lái)源分析的重要作用,同時(shí)重點(diǎn)探討了雜質(zhì)研究過(guò)程中分析技術(shù)的發(fā)展,尤其在結(jié)構(gòu)鑒定中質(zhì)譜技術(shù)的發(fā)展,與此同時(shí),根據(jù)國(guó)外毒性雜質(zhì)研究的指導(dǎo)原則,明確了雜質(zhì)毒性研究的方法。
2022/12/02 更新 分類:科研開(kāi)發(fā) 分享
該文主要綜述電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法(ICP-AES)和電感耦合等離子體,質(zhì)譜法(ICP-MS)方法開(kāi)發(fā)的要點(diǎn),包括確定待測(cè)元素種類和限度、前處理方法選擇、干擾和校正。
2025/02/27 更新 分類:科研開(kāi)發(fā) 分享
本文提出了雜質(zhì)來(lái)源分析的重要作用,同時(shí)重點(diǎn)探討了雜質(zhì)研究過(guò)程中分析技術(shù)的發(fā)展,尤其在結(jié)構(gòu)鑒定中質(zhì)譜技術(shù)的發(fā)展,與此同時(shí),根據(jù)國(guó)外毒性雜質(zhì)研究的指導(dǎo)原則,明確了雜質(zhì)毒性研究的方法。
2020/07/06 更新 分類:科研開(kāi)發(fā) 分享
為探究藥用復(fù)合膜中元素雜質(zhì)的潛在風(fēng)險(xiǎn),筆者參考Q3D (R2),采用4種模擬液(純水、4%乙酸溶液、pH值為3.5的乙酸鹽緩沖液和pH值為8.0的氨-氯化銨緩沖液)對(duì)藥用復(fù)合膜進(jìn)行浸提,利用ICP-MS法測(cè)定可能浸出的12種元素雜質(zhì)含量,包括1類元素(As、Cd、Hg、Pb)、2A類元素(Co、Ni、V)和3類元素(Ba、Cr、Cu、Sb、Sn),為藥用復(fù)合膜的安全性評(píng)價(jià)及監(jiān)管部門(mén)提供數(shù)據(jù)參考與技術(shù)支持。
2025/12/11 更新 分類:法規(guī)標(biāo)準(zhǔn) 分享
生物質(zhì)的元素組成通常指其有機(jī)的元素組成,掌握生物質(zhì)的元素組成對(duì)研究它的燃燒和熱解都具有十分重要的意義,在國(guó)際貿(mào)易中會(huì)經(jīng)常用到。
2018/09/17 更新 分類:科研開(kāi)發(fā) 分享
本文以具體實(shí)例列舉了不同類型雜質(zhì)和不同來(lái)源雜質(zhì)的情況,對(duì)原料藥和制劑中的雜質(zhì)提供了一種觀點(diǎn)。
2021/12/09 更新 分類:科研開(kāi)發(fā) 分享
CDE發(fā)補(bǔ)通知對(duì)于雜質(zhì)譜研究列舉了兩個(gè)雜質(zhì),是不是只要研究發(fā)補(bǔ)通知里的雜質(zhì)就行?不需要再研究其他雜質(zhì)?CDE說(shuō)要進(jìn)行全面的雜質(zhì)譜分析,然后列舉了兩個(gè),CRO認(rèn)為只要做這兩個(gè)就行了。
2024/12/30 更新 分類:科研開(kāi)發(fā) 分享
企業(yè)要嚴(yán)格把關(guān)進(jìn)貨渠道,嚴(yán)格檢查原材料質(zhì)量,消除和降低雜質(zhì)和疏松等缺陷,建立常規(guī)檢測(cè)氣體含量及夾雜物等的質(zhì)檢制度;嚴(yán)格控制形成低熔點(diǎn)共晶雜質(zhì)元素(錫、鉛等)的含量,通過(guò)調(diào)整成分,細(xì)化晶粒,降低第二相的偏聚;嚴(yán)格控制熱處理工藝,適當(dāng)提高去應(yīng)力退火溫度和時(shí)間,從而消除殘余應(yīng)力,避免裂紋的萌生和擴(kuò)展。
2025/07/10 更新 分類:檢測(cè)案例 分享